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[导读]1月29日消息,日前,BOE创新汇公众号宣布,京东方已在氧化物半导体显示技术领域取得重要突破,攻克了铜(Cu)易扩散、易氧化和易钻刻等业界难题。

1月29日消息,日前,BOE创新汇公众号宣布,京东方已在氧化物半导体显示技术领域取得重要突破,攻克了铜(Cu)易扩散、易氧化和易钻刻等业界难题。

京东方在业内率先实现了铜互连堆叠结构的量产,及高刷新率、高分辨率、低功耗氧化物显示技术集成,打破了国外垄断,在行业内持续推出低功耗、超窄边、500Hz+电竞显示屏、超大尺寸 8K Oxide 120Hz、可变频刷新率显示等一系列高端技术和产品。

值得一提的是,京东方还展示了拥有全球最高刷新率显示的27英寸氧化物FHD 500 Hz+显示屏。

据介绍,这款显示器采用高迁移率Oxide背板,支持8Lane eDP输出、真8bit输出,拥有1ms响应。

官方表示,京东方创造性研发出铜扩散阻挡技术,提出独有的氮氧平衡理论、界面修复理论,同时产学研联合,在材料、器件结构和原理上均实现了突破,解决了氧化物半导体显示技术的量产难题,在国内率先实现量产。

日前,京东方(BOE)发布消息,表示已在氧化物半导体显示技术领域取得重要突破,攻克了铜(Cu)易扩散、易氧化和易钻刻等业界难题,在业内率先实现了高刷新率、高分辨率、低功耗氧化物显示技术集成,在行业内持续推出低功耗、超窄边、500Hz+电竞显示屏、超大尺寸8K Oxide 120Hz、可变频刷新率显示等一系列高端技术和产品。

凭借多年技术积累,京东方设计了高透叠层模型和高透动态补偿柱状隔垫物方案、开发源极驱动信号多路转化技术(MUX)、氧化物触控集成(Oxide Full In Cell)技术和智能同步驱动(Smart Sync Driving)充电补偿方案,实现了高刷新率、高分辨率氧化物显示技术集成,在业内率先实现了110英寸8K 120Hz氧化物GOA量产。

据介绍,这款显示器采用高迁移率Oxide背板,支持8Lane eDP输出、真8bit输出,拥有1ms响应。

官方表示,京东方创造性研发出铜扩散阻挡技术,提出独有的氮氧平衡理论、界面修复理论,同时产学研联合,在材料、器件结构和原理上均实现了突破,解决了氧化物半导体显示技术的量产难题,在国内率先实现量产。

同时,集成栅驱动电路嵌入阵列基板、触控驱动的集成化技术、高透过率的薄膜光学模型等,既实现了产品性能提升,又实现了从传统非晶硅TFT向氧化物导体显示的技术升级。

随着智慧家庭客厅娱乐、商业赛事直播等需求的增长,超大尺寸、高分辨率及高刷新率的显示屏备受各大厂商的关注,半导体显示性能的提升面临一场革新,其中背板的阵列驱动是核心技术之一。

凭借多年技术积累,京东方已在氧化物半导体显示技术领域取得重要突破,攻克了铜(Cu)易扩散、易氧化和易钻刻等业界难题,在业内率先实现了铜互连堆叠结构的量产,及高刷新率、高分辨率、低功耗氧化物显示技术集成,打破了国外垄断,在行业内持续推出低功耗、超窄边、500Hz+电竞显示屏、超大尺寸 8K Oxide 120Hz、可变频刷新率显示等一系列高端技术和产品。同时在高迁移率30+cm2/Vs 氧化物技术研发方面也有很大突破,为后续高端产品的性能提升奠定了技术基础。

氧化物半导体显示技术具备迁移率高、关态电流低、制程工艺简单、可大尺寸化等优点,能够满足未来产品高品质提升和降低能耗的双重需求,已成为技术和市场发展的必然趋势。然而,在氧化物技术产业化应用上,传统的氧化物薄膜微结构在偏压应力、光照、大电流下器件性能衰减等不稳定性问题,以及铜工艺与氧化物工艺匹配问题,是亟待半导体显示业界解决的普遍难题。

京东方创造性研发出铜扩散阻挡技术,提出独有的氮氧平衡理论、界面修复理论,同时产学研联合,在材料、器件结构和原理上均实现了突破,解决了氧化物半导体显示技术的量产难题,在国内率先实现量产。同时集成栅驱动电路嵌入阵列基板、触控驱动的集成化技术、高透过率的薄膜光学模型等,既实现了产品性能提升,又实现了从传统非晶硅TFT向氧化物导体显示的技术升级。开拓了一条低碳、绿色的产业和产品升级路线。

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