2021年，国内进口芯片金额近4400亿美元，创下历史纪录

按照海关数据，2021年，国内进口芯片金额近4400亿美元，创下了历史纪录，要知道在所有的进口的商品中，芯片金额占比高达28.6%，可见国内对于国外的芯片有多依赖。所以这几年，大家有一个共同的希望，那就是国产芯片能够崛起，能够迅速的提高自给率，减少进口。而基于当前大家都懂的外部形势，要想真正的减少进口，提高自给率，其实要求是国内半导体供应链能够崛起，特别是半导体设备，能够达到先进工艺，这样才不会被卡脖子。

那么问题就来了，目前所有国产半导体设备中，究竟哪一种是最落后的，最需要突破的?其实最落后的，就是大家最熟悉的光刻机。我们知道芯片制造过程中，工序特别多，需要的半导体设备也特别多，但主要可以分为三个主要步骤，那就是单晶硅片制造、前道工序、单晶硅片制造就是把砂子变成晶圆的过程，这一块目前国内有300mm的晶圆，可以用于10nm以下，所以这一块的国产设备，并不落后。

而前道工序这里有8个主要流程，分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、CMP抛光、金属化、测试，所以至少有8种关键设备。这8种关键设备里面，只有国产光刻机目前还在90nm，其它的设备大多到了28nm，甚至14nm的程度，有些甚至到了5nm，3nm，比如刻蚀机。而后道工序主要是指封测这一块，目前国内有三大厂商，早就到了5nm，基本上国内也是处于全球先进水平的。可见，综合起来看，真正最拖后腿的就是国产光刻机了，还在90nm，而芯片制造是遵循短板理论的，能够制造多少nm的芯片，取决于最落后的那一环，所以光刻机必须突破，所以永远拖后腿，严重阻碍国产芯片的崛起了。

2021年中国光刻机现在纳米精度达到多少，依据现有公开的为90纳米，对于65nm光刻机进行整机考核，目前小编还没听闻相关消息，不过对于国内来说，光刻机的路程还是有一段路要走的，对于光刻机所搭配的ups不间断电源或将ups电源用于相关场所的话，是可以直接咨询我们优比施厂家提供完善解决方案。

目前，中国光刻机主要包括上海微电子设备有限公司、中子技术集团公司国电，第45研究院，以及芯硕，合肥半导体有限公司、先腾光电科技、无锡影速半导体科技。

其中，上海微电子设备有限公司量产了90nm，这是中国最先进的技术，国家重大科技项目65nm光刻机，正在研发中，整机正在考核中。

对于光刻机技术来说，90纳米是一个技术步骤;45纳米是一个技术步骤;22纳米是一个技术步骤.把90纳米的技术升级到65纳米并不难，但是45纳米比65纳米难多了。

我们要一步一个脚印的走下去，中国16个重大专项中的02专项提出，到2020年光刻机要达到22nm。目前主流是45nm，而32nm和28nm都需要在深紫外光刻机上进行改进和升级

光刻机的固态深紫外光源也正在研究和开发中。光刻机在中国的研发是并行的，22纳米光刻机使用的技术也在研发升级45纳米。

中国28纳米光刻机最新进展：

由于长期的技术封锁，我们的军用芯片大部分都是自己做的。这条新闻清楚地告诉公众一个常识。我们拥有全套的军用芯片制造设备和制造技术。我们知道如何制造芯片，我们也有自己的光刻机光刻机不是空白!全国人民可以放心，我们目前的缺点是民用芯片的设备和制造。

以前只是因为市场和成本，民用产品都是用进口设备做的!光刻机，芯片制造的核心设备，已经成为国内半导体发展的绊脚石。

目前最高端的光刻机来自荷兰ASML，几乎垄断了整个市场。现在供不应求，一年只能生产30多台。当全球缺芯危机来临时，行业巨头台积电和三星直接垄断了7nm芯片业务，因为他们拥有荷兰ASML的EUV光刻机。

虽然短期内局限于民用芯片领域，但我们要担心的是，手机、电脑等民用芯片的制造和生产只是时间问题!

前段时间，央视也报道了一个好消息。国内首款高能光源机也已进入安装调试阶段。该设备由中国科学院高能物理研究所自主研发，可以说突破了这种高能辐射光源在安装应用中的诸多难题。毫不夸张地说，我们不缺资金、不缺人才、不缺精神、只缺一点时间。

从目前我们的掩模对准器和民用芯片的制造速度来看，我们已经开始实施研发;所有方面的项目。目前28nm掩模对准器已经成功，可以满足中国80%以上的芯片应用至于军用芯片，我们可以100%满足自己的需求。民用芯片大规模爆炸只是时间问题!

近来国际局势风起云涌，以美国为首的西方国家不断炮制涉华谣言，粗暴干涉中国内政。前不久美国芯片大厂英特尔公开站队，与满嘴谎言的美国政府为伍。这一“吃中国饭还砸中国碗”的无耻行径立即在我国社交媒体上掀起轩然大波，英特尔代言人王俊凯通过工作室发表声明，宣布即日起终止与英特尔品牌的一切合作，获得舆论力挺;各大社交媒体上针对英特尔的谴责声音层出不穷，引来外媒关注。正如网友所言，英特尔占据的垄断地位使得现阶段我们无法真正对其进行抵制，关键还是在芯片领域，我国仍需不断努力。

此前在本月中旬，我国一企业官宣好消息，发布公告称已经到位5台光刻机。那么这些光刻机能发挥什么作用呢?中国芯能否实现“逆风翻盘”?众所周知，光刻机是制造芯片的重要设备，其种类也非常多。根据应用领域不同，可作用于芯片光刻，封装等等。光刻机的主要作用是对光刻胶进行曝光测试，提升产品品质。

正如上述所言，光刻胶对于我国半导体产业而言至关重要，光刻胶是芯片生产过程中不可或缺的材料，也是影响芯片制程工艺的关键因素。和光刻机一样，我国光刻胶长期受制于人，严重依赖日本和美国企业输送，这对于我国芯片产业而言，是不容忽视的隐患。正是因为明白这一点，在国家大力扶持半导体产业发展的情况下。我国半导体材料供应商不断提升对光刻胶的重视程度，在部分细分领域，国产光刻胶品质已达全球第一梯队，具备国产替代的能力。