深度回弹 ESD 电路保护二极管存在的危险
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随着技术的不断进步,许多科技公司都专注于将越来越多的芯片组挤入更小的空间。结果,自集成电路发明以来,芯片组的尺寸一直在缩小。随着芯片组尺寸不断缩小,它们对静电放电 (ESD) 等不受欢迎的电压瞬变变得更加敏感。
当集成电路( IC )经受静电放电( ESD)时,放电回路的电阻通常都很小,无法限制放电电流。例如将带静电的电缆插到电路接口上时,放电回路的电阻几乎为零,造成高达数十安培的瞬间放电尖峰电流,流入相应的 IC 管脚。瞬间大电流会严重损伤 IC ,局部发热的热量甚至会融化硅片管芯。 ESD 对 IC的损伤还包括内部金属连接被烧断,钝化层受到破坏,晶体管单元被烧坏。ESD 还会引起 IC 的死锁( LATCHUP)。这种效应和 CMOS 器件内部的类似可控硅的结构单元被激活有关。高电压可激活这些结构,形成大电流信道,一般是从 VCC 到地。串行接口器件的死锁电流可高达 1A 。死锁电流会一直保持,直到器件被断电。不过到那时, IC 通常早已因过热而烧毁了。电路级ESD防护方法1、并联放电器件常用的放电器件有TVS,齐纳二极管,压敏电阻,气体放电管等。
尽管有多种ESD 保护器件,但每种保护方法都相似。ESD 瞬态电压抑制器 (TVS) 二极管与芯片组并联放置。如果节点上的电压超过某个阈值,二极管将导通并保护芯片组(图 1)。
图1:ESD二极管处于关闭状态(左);ESD二极管处于导通状态并导通(右)
一些 ESD 保护器件可能会表现出暂时的负电阻,并将电压“迅速恢复”到较低的设定电压或保持电压 V H。V H和击穿电压之间的差异可以很小(浅回弹)或相当大(深回弹)。深度回弹器件可以提供较低钳位电压的好处,但存在风险。如果不考虑某些设计规范,就会出现一种称为数据闩锁的现象。在 ESD 冲击等突发瞬变事件中,二极管将迅速恢复到 V H(图 2)。但如果 V H器件的电压在信号通过的工作电压范围内,即使经过 ESD 冲击,二极管仍可保持导通状态。这被称为闩锁,并且由于多种原因可能是有害的。
第一个原因是 ESD 保护二极管不是为处理连续传导电流而设计的。这样的电流可能会损坏保护二极管,以及二极管应该保护的芯片组。第二个原因是,当二极管传导电流时,二极管两端的电压可能太低,芯片组无法正常工作。由于二极管和芯片组是并联连接的,如果二极管将电压保持在一定水平,芯片组也会保持该电压。
图 2:浅回弹(左);深度回弹(右)
回弹越深或保持电压越低,发生闩锁的可能性就越大。为避免此问题,在使用深度回弹保护二极管时必须考虑几个设计注意事项,包括二极管低钳位的好处。
选择保护二极管时,还需要考虑低电容(C L)和低动态电阻(R DYN)。高清多媒体接口 (HDMI) 2.0 和 USB 3.1 等接口中数据速度的提高提出了对具有 C L和 R DYN 的ESD 二极管的需求。较低的 C L 可保持信号完整性并支持更快的数据速率,而较低的 R DYN允许较低的钳位电压。一般来说,C L和 R DYN之间的关系是负相关的:降低一个会增加另一个。然而,TI 的新型 ESD 二极管同时具有低 C L和低 R DYN. 二极管还具有低钳位电压的浅回弹功能,从而消除了闩锁的风险。表 1 重点介绍了二极管这些二极管的一些规格。
TI 部件号 |
界面 |
电容 ( CL ) |
动态电阻 (R DYN ) |
击穿电压 (V BR ) |
TPD1E0B04 |
天线,雷电 3 |
0.13pF |
1Ω |
6.7V |
TPD1E01B04 |
USB Type-C™、 |
0.18pF |
0.6Ω |
6.4V |
TPD1E04U04 |
USB 3.0、 |
0.5pF |
0.2Ω |
6.2V |
TPD1E1B04 |
USB,(通用输入/输出 GPIO,按钮 |
1pF |
0.15Ω |
6.4V |
TPD4E02B04 |
USB Type-C、 |
0.3pF |
0.5Ω |
6.4V |
表 1:低电容、低 R DYN ESD 二极管
总之,深度回弹保护二极管具有在较低电压下钳位的优势。然而,这些二极管的实现需要考虑几个方面。如果未正确实施这些设计考虑,则存在可能损坏保护二极管、芯片组或两者的闩锁风险。然而,低电容、低 R DYN 保护二极管具有低钳位电压的优势,而没有闩锁风险,使其成为适用于许多接口的简单、廉价的解决方案。