与科创板共同成长，中微公司迎来上市三周年

多元化产业布局，以"硬科技"推动硬实力持续跃升

上海2022年7月22日 /美通社/ -- 科创板开市三周年之际，作为科创板首批上市的25家企业之一的中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称"中微公司"，上交所股票代码：688012）也已迎来上市三周年。攀登勇者，志在巅峰。伴随科创板设立至今，依托强大的政策与资金支持，半导体设备龙头股中微公司坚持创新驱动发展，践行科学管理章法，实现了业绩连年稳步增长，并在技术创新、业务拓展、产业链协同、人才建设等方面取得了长足进展。

• 2021年公司营业收入和利润均创历史新高，分别达到31.08亿元和10.11亿元，是2019年销售额和利润的1.5倍和5.3倍；
• 截至2021年底，公司已申请2012项专利，其中发明专利1741项；
• 2021年共生产付运ICP刻蚀设备134腔，产量同比增长235%；
• 2021年公司员工1048人，其中研发人员占39.6%，人均创收再创新高，同比增长15.5%。

设立科创板并施行注册制，为科创产业发展注入了新的活力，也为高新技术企业发展创造新的机会。中微公司董事长兼总经理尹志尧博士表示："在科创板上市，对中微公司意义重大。回望过去三年，我们拓宽了融资渠道，增强了品牌的市场影响力，也赢得更多与产业链上下游企业合作的机会；另一方面，良好的股权激励政策也让我们能更好地激励员工，建设人才队伍，加速发展，为中微公司跻身国际领先的一流设备公司铺平道路。"

2019年7月22日，中微公司在首批25家科创企业集体挂牌仪式上合影。

国际领先的尖端产品，构筑企业"硬科技"实力

中微公司致力于开发微观加工设备，通过打造具有国际竞争力的技术创新与差异化产品，多元化产品线布局，为客户和市场提供性能优越、高生产效率和高性价比的设备解决方案。

凭借其在国内首创的高端等离子体刻蚀机，中微公司已经成为国内高端微观加工设备的翘楚。在刻蚀设备方面，中微公司等离子体刻蚀设备已在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米、5纳米以及更先进的集成电路加工制造及先进封装中得到批量应用，其中 CCP等离子体刻蚀设备产品持续保持竞争优势，在部分关键客户市场占有率已进入前三位甚至前两位；ICP刻蚀设备也在客户端取得突破性进展，2021年付运超过130腔，同比增长超过230%。

在MOCVD设备领域，中微公司用于氮化镓基LED外延生产的MOCVD设备已在行业领先客户生产线上大规模投入量产，中微公司已成为世界排名前列、国内占领先地位的氮化镓基LED设备制造商，并持续保持在行业内的领先地位。

此外，中微公司还在开发应用于集成电路后道的先进封装设备，以及MEMS、Mini LED等领域的国际先进设备产品。截至2021年底，中微公司共有2,300多个反应台服务于亚洲与欧洲50余家芯片制造公司的70余条生产线。

高效运用资金，创新动能蓄势发力

中微公司上市后，高效运用募集资金，持续创新增效、精益运营，与客户及合作伙伴协作共赢，实现了产品订单及销售额的稳步提升。在2021年，中微公司营业收入和利润均创下历史新高，营业收入同比增长36.7%达31.08亿元，归母净利润同比增长105.5%达10.11亿元，是2019年公司科创板上市当年销售额和利润的1.5倍和5.3倍。

作为一家"硬科技"实力公司，中微公司登陆科创板后，仍持续保持高水平的研发投入。大额的研发投入与较高的研发投入占比为公司专注高端微观加工设备的自主研发和创新提供了保障。公司上市3年以来，持续推动落实以研发创新为驱动的高质量增长策略，2021年公司研发同比增长13.8%，占2021年营业收入的比重为23.42%。截至2021年年底，中微公司已拥有多项自主知识产权和核心技术，申请专利达2012项，其中发明专利达1741项；已获授权专利达1179项，其中发明专利达993项。

"硬科技"实力离不开一支技术精湛、勇于创新的国际化人才队伍。上市后，中微公司实施了基本覆盖全部员工的第二类限制性股票激励计划，用以吸引和留住优秀人才，保证核心技术团队和技术开发的稳定性和持续性。全员持股的激励制度和合作共赢的团队精神，让中微公司吸引了来自世界各地具有丰富经验的半导体设备专家，形成了成熟的研发和工程技术团队。2021年，公司研发人员达415人，占员工总人数的39.6%；同时，公司的人均创收再创新高，达326万元，同比增长15.5%。

2021年公司成功完成再融资发行，募集资金约82亿元，这是继2019年科创板上市后的又一有力支撑企业高速发展的里程碑式事件。公司不断提升研发投入的强度和效率，有力地保障了公司在科技创新、高水平研发队伍建设、科学合规营运、国内外业务拓展、领先的客户服务支持等方面的质量，不断提升企业的综合竞争力，积累后续高速发展所需的产品、技术和营运能力等方面的重要储备。随着募集资金的到位，公司加速推进了南昌研发生产基地和上海临港产业化基地的建设。今后两年，中微公司将会有比现有面积大十几倍的厂房全面建成，进一步扩充高端设备产能、提升公司研发能力和科技创新水平，为实现高速、稳定、安全的大发展夯实基础。

南昌约14万平方米研发生产基地（图左），上海市临港新片区约18万平方米研发生产基地和约10万平方米的总部大楼（图右）。

筑牢发展基石，打造具有国际竞争力的平台型企业

作为国内领先的高端微观加工设备公司，除了把募集资金用于加快技术创新、提升产业规模上，整合产业链上下游和相关资源则是中微公司的另一个发力点。中微公司希望凭借充分发挥自身的行业影响力、聚集力 ，积极推动一批国内外领先的半导体设备、材料和关键零部件配套企业协同发展，共同打造企业创新联合体，逐步形成产业集群。

在保持高速发展的道路上，中微公司积极践行企业社会责任，通过不断探索和实践，助力国家"双碳"目标的实现与达成。2022年4月，中微公司发布了首份 "ESG 环境、社会及管治报告"，充分展示了其在提高产品质量与服务、完善治理机制、履行社会责任、保护环境等方面的系列举措及成效。

上市三周年，也标志着中微公司迎来了新的成长阶段。公司坚决落实科学管理和运营体系，不断提升企业经营质量，坚持以"四个十大"为中心，通过"产品开发的十大原则"、"战略销售的十大准则"、"营运管理的十大章法"及"精神文化的十大作风"的行业宣导与对外输出，和海内外合作伙伴一起努力实现技术进步，共同推动半导体行业快速发展。

未来，中微公司还将继续瞄准世界科技前沿，持续践行三维发展战略，深耕集成电路关键设备领域、扩展在泛半导体关键设备领域应用并积极探索其他新兴领域，将中微公司打造成具有国际竞争力的平台型企业集团，以"硬科技"实力为中国加快建设科技强国和实现高水平科技发展贡献力量。

关于中微半导体设备（上海）股份有限公司

中微半导体设备（上海）股份有限公司（证券简称：中微公司，证券代码：688012）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们正在改变人类的生产方式和生活方式。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户从65纳米到5纳米及更先进工艺的众多刻蚀应用，中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备已在客户生产线上投入量产，目前已在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据领先地位。