荷兰政府颁布有关先进半导体设备额外出口管制新条例

据报道，荷兰政府于2023年6月30日正式宣布，针对先进半导体设备出口，制定新的出口管制条例。

根据新出口管制条例规定，荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)需要向荷兰政府申请出口许可证，才能发运最先进的浸润式DUV系统，即TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向ASML提供许可证所附条件的细节1。

荷兰对外贸易和发展合作部长Liesje Schreinemacher表示：“我们采取这一步骤是出于国家安全考虑。对于将受到影响的公司来说，知道他们可以期待什么是好事。这将给他们一定的时间来适应新的规则。”

关于许可证申请方面，荷兰政府表示，预计一次可以申请24个许可证，然后每年可申请20个许可证。该计划涉及荷兰只有极少数公司生产的特定设备。授权义务仅适用于该计划所涵盖公司总产品组合的一小部分。

从限制政策来看，主要受影响的荷兰企业为ASML和ASM International。

综上所述，荷兰对华光刻机出口管制对中国半导体产业的发展带来了一定的影响，但同时也促进了国内半导体产业的自主创新和发展。