Intel收到全球第一台高NA EUV极紫外光刻机

1月7日消息，Intel官方宣布，位于俄勒冈州的晶圆厂已经收到ASML发货的全球第一台高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，型号为“Twinscan EXE:5000”，它将帮助Intel继续推进摩尔定律。

Intel早在2018年就向ASML订购了这种新一代光刻机，将用于计划今年量产的Intel 18A制造工艺，也就是1.8nm级别。

Intel还第一个下单了改进型的Twinscan EXE:5200，将在2025-2026年用于更先进工艺。

根据此前报道，ASML将在2024年生产最多10台新一代高NA EUV光刻机，其中Intel就定了多达6台。

到了2027-2028年，ASML每年都能生产20台左右的高NA EUV光刻机。

新光刻机的价格估计至少3亿美元，甚至可能达到或超过4亿美元，也就是逼近人民币30亿元，而现有低NA EUV光刻机需要2亿美元左右。