场效应管工作原理详解
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场效应管(Field-Effect Transistor,简称FET)是一种重要的半导体器件,属于电压控制型的电子元件。它的工作原理基于电场对导电沟道中载流子(电子或空穴)的控制,以此来改变通道中的电流大小。根据导电沟道类型和工作机理的不同,场效应管主要分为结型场效应管(Junction Field-Effect Transistor, JFET)和金属氧化物半导体场效应管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, MOSFET)。下面将详细介绍这两种类型的场效应管的工作原理。
结型场效应管(JFET),结构与工作原理
JFET通常由一个PN结或者NPN、PNP双扩散形成的通道以及两端的栅极构成。在结构上,其源极(Source)、漏极(Drain)同为一种掺杂类型,且它们之间形成一个连续的导电通道,而栅极(Gate)则通过两侧的PN结紧密接触这个通道。
当没有施加栅极电压时,由于PN结自身的反向偏置作用,通道处于导通状态,电流可以从源极流向漏极。当逐渐增加从栅极到源极的负向电压时,会在PN结附近产生更强的反向电场,该电场会将沟道中的多数载流子推离导电区,导致沟道宽度变窄,从而增大电阻,降低从源极到漏极的电流。如果栅极电压足够大,沟道会被完全夹断,阻止电流流动,即实现了电流的截止。因此,JFET是通过改变栅极电压来调节沟道电阻进而控制漏极电流的。
特点
- JFET是电压控制器件,输入阻抗极高。
- 具有双向导电性,正向和反向都能工作。
- 由于PN结的存在,不存在二次击穿现象。
金属氧化物半导体场效应管(MOSFET),结构与工作原理
MOSFET的结构更为复杂,包括P型衬底、N型阱(在增强型MOSFET中)或N型衬底(在耗尽型MOSFET中),以及位于绝缘层(通常是二氧化硅SiO₂)上的金属(或多晶硅)制成的栅极。MOSFET的核心部分是栅极与衬底之间的绝缘层,这使得MOSFET具有非常高的输入阻抗。
在增强型MOSFET中,当栅极相对于源极没有施加电压时,即使VDS存在,由于绝缘层的作用,不会形成导电沟道,因此几乎没有漏极电流。当对栅极施加正电压时,栅极附近的电荷吸引衬底中的少数载流子(对于NMOS是空穴,对于PMOS是电子),这些载流子在表面形成一个导电通道,使源极和漏极之间能够流通电流。随着栅极电压的增加,通道内的载流子数量增多,导电性能增强,漏极电流ID随之增大。反之,减小栅极电压会使通道消失或减弱,导致电流下降。
特点
- MOSFET同样为电压控制器件,且输入阻抗远高于JFET,接近无限大。
- 根据导电沟道的形成方式和工作模式,MOSFET可以细分为增强型和耗尽型两种类型。
- 由于栅氧层的存在,MOSFET能更好地抑制噪声,更适合用于集成电路设计,并且可制造出高密度、高性能的微处理器和其他数字逻辑电路。
- 在功率转换和开关应用中,MOSFET的低导通电阻特性使其成为理想的开关器件。
场效应管的应用
无论是JFET还是MOSFET,因其独特的电压控制特点和优越的电气性能,在众多领域得到广泛应用:
1. 模拟电路:作为放大器、滤波器、稳压器等电路的关键组件;
2. 数字电路:广泛应用于集成电路设计,尤其是大规模和超大规模集成电路;
3. 电源管理:在开关电源、DC/DC转换器、电机驱动等领域中用作高效的开关器件;
4. 射频通信:在无线通信设备中,MOSFET被用作射频功率放大器和混频器等关键模块;
5. 微电子机械系统(MEMS) 和 生物传感器等高科技领域也有着广泛的用途。
场效应管凭借其独特的电压控制机制,不仅革新了传统电子技术,而且在现代电子科技发展中扮演着至关重要的角色,尤其在半导体集成电路产业中,MOSFET已经成为不可或缺的基础构建单元。通过对场效应管深入理解并有效利用其工作原理,工程师们得以不断推动着电子技术的进步和发展。