集成电路工艺小结
时间：2018-07-31 15:10:18
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[导读]前工序图形转换技术：主要包括光刻、刻蚀等技术薄膜制备技术：主要包括外延、氧化、化学气相淀积、物理气相淀积(如溅射、蒸发) 等掺杂技术：主要包括扩散和离子注入等技术后工序划片封装测试老化筛选来源:0次
前工序
图形转换技术：主要包括光刻、刻蚀等技术
薄膜制备技术：主要包括外延、氧化、化学气相淀积、物理气相淀积(如溅射、蒸发) 等
掺杂技术：主要包括扩散和离子注入等技术后工序
划片
封装
测试
老化
筛选
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