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[导读]目前,主流前道光刻机主要分为i line光刻机、KrF光刻机、ArF光刻机、ArFi光刻机和EUV光刻机,其中技术含量最高、价格最贵的当属EUV光刻机。不同型号的光刻机,使用配套的光刻胶。

目前,主流前道光刻机主要分为i line光刻机、KrF光刻机、ArF光刻机、ArFi光刻机和EUV光刻机,其中技术含量最高、价格最贵的当属EUV光刻机。不同型号的光刻机,使用配套的光刻胶。

9月29日早间,晶瑞股份(300655,SH)发布关于购买设备的公告,公司为开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目,与SK Hynix(即SK海力士)签署设备进口合同,进口ASML光刻机设备,进口代理方为Singtest Technology PTE.LTD。,总价款为1102.5万美元(约合7500万元人民币)。

同时,晶瑞股份也披露了其向不特定对象发行可转换公司债券预案,拟募集资金5.50亿元,其中3.13亿元用于集成电路制造用高端光刻胶研发项目。

据悉,晶瑞股份是一家微电子材料的平台型高新技术企业,围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向,主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。

晶瑞股份表示:“合同的顺利履行可以保障集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性和设备如期到位并投产,对加快项目进度有积极影响。本次交易有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力,有助于落实公司发展战略,提高公司抗风险能力和可持续发展能力。”

9月29日上午,每日经济新闻记者致电晶瑞股份董秘办公室,公司工作人员对记者确认,所购买的光刻机为二手设备,主要用途是研究而非生产制造。

对于晶瑞股份所购买的光刻机,可以产出多少纳米制程产品,该工作人员表示需要进一步向技术人员确认。待记者下午再度致电,晶瑞股份仍在确认之中。

晶瑞股份在可转债发行可行性分析报告中披露,“(公司)旨在通过自主研发,打通ArF光刻胶用树脂的工艺合成路线,完成ArF光刻胶用树脂的中试示范线建设,满足自身ArF光刻胶的性能要求。实现批量生产ArF Immersion(即ArFi)光刻胶的成套技术体系并完成产品定型,技术指标和工艺性能满足45~14nm集成电路技术和生产工艺要求”。

即晶瑞股份所研究的光刻胶项目,产品最高可用于14nm芯片生产。

值得一提的是,2020年6月,晶瑞股份子公司苏州瑞红与合肥长鑫于“长三角一体化发展重大合作事项签约仪式”上签署光刻胶相关合作协议,未来公司将联合华虹半导体、长鑫存储等下游客户共同推进高端光刻胶产品的研发和应用。

存国产替代空间

据了解,光刻胶领域长年被日本、欧美企业垄断,目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额,行业集中度较高。国内光刻胶发展起步较晚,生产能力主要集中于PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等中低端产品,而TFT-LCD、半导体光刻胶等高端产品仍需大量进口。

目前,适用于6英寸硅片的g线、i线(即i line)光刻胶的自给率约为20%,适用于8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%,而适用于12寸硅片的ArF光刻胶基本依靠进口。

早在2018年,晶瑞股份就已完成承担的02国家重大专项中i线光刻胶子项研发任务,顺利通过国家验收。上市公司表示,i线光刻胶产品已正常供应中芯国际等有代表性的半导体企业使用。方正证券研报显示,i线主要用于800~250nm制程。另外,晶瑞股份完成中试的KrF(248nm)光刻胶也已进入客户测试阶段,可达到0.15um的分辨率。

简而言之,半导体光刻胶相对低端的产品中,i线光刻胶已经供应客户,KrF(248nm)光刻胶进入客户测试,ArF光刻胶和ArFi光刻胶,晶瑞股份正通过可转债募集资金,拟投入研发。目前已向SK海力士购买二手光刻机用于研究。

而面板用光刻胶方面,晶瑞股份在2016年与三菱化学在苏州设立了LCD用彩色光刻胶共同研究所,为三菱化学的彩色光刻胶在国内的检测以及国内客户评定检测服务,并于2019年开始批量生产供应显示面板厂家。

9月29日,晶瑞股份大幅高开,上午直接涨停,报收于42.86元/股,上涨19.99%,市值增长13.5亿元,最新市值80.6亿元。

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