中国芯片没有EUV光刻机，这该何去何从呢

提到芯片，就不得不说光刻机，因为光刻机是制造芯片的必要设备，没有光刻机，芯片制造就从无谈起。都知道，台积电是全球芯片制造技术最先进的厂商，拿下了全球超过50%的芯片订单，而台积电之所领先，很大一部分原因就是因为其安装了大量先进的EUV光刻机。据悉，EUV光刻机是全球顶尖技术的集合体，其零部件超过10万多个，像美国的光源技术、德国徕卡的镜片等等，虽然是ASML研发生产的，但90%的零部件都依赖进口。

由于众所周知的原因，特别是由于西方的禁运，中国芯片制造业无法得到EUV设备。但是全球能使用EUV的逻辑工艺制程制造商少之又少，中国大陆地区没有仅只有三家，分别是台积电、三星及英特尔。根据CounterpointResearch的调查，到2022年底，英特尔将只能得到20台ASML的EUV设备，远低于台积电可能的90台，以及三星的45~50台。那美没有光刻机的中国大陆该何去何从呢。中国芯片制造业有进步，然后差距大是客观的现实。就全球代工业看，台积电是一马当先，无人可及。现阶段它不可能是我们的对标。相比设计及封装业，中国芯片制造业是最弱，主要体现在与全球先进制造工艺水平差距大，及设备与材料等大部分依赖进口，在成熟制程段，无论工艺，或者产品都缺少“佼佼者”，另外在西方打压下，尤其是不确定性，给产业发展带来不小的心理压力。

台积电在光刻机的技术上处于领先地位。2月19日，台积电董事长刘德音在2021国际固态电路会议上透露出了一个重要信号：台积电已经突破了EUV光源技术，功率最高可以达到350W，除了可以用于生产5nm和3nm芯片之外，甚至还能满足更先进的1nm芯片的生产条件。由此可见，台积电对EUV光刻机的研发取得了巨大的进展，如果它真的有意自主生产光刻机，那么以后就不用再看ASML公司的脸色了。而且EUV光源技术是光刻机中最难掌握的部分，台积电能够攻克进一步证明了自己的强大实力。三星电子近期活动也不断。将极紫外（EUV）光刻技术应用在基于1z-nm工艺的DRAM上，并且完成了量产。半导体分析机构TechInsights拆解了分别采用EUV光刻技术和ArF-i光刻技术的三星1z-nm工艺DRAM，它认为该技术提升了三星的生产效率，并减小了DRAM的核心尺寸。TechInsights还将三星的与美光的1z-nm工艺DRAM进行了对比，三星的DRAM在芯片超单元尺寸（Cell Size）方面同样较小。

中国最好的中芯国际，虽能够量产14nm芯片，但良品率却难以保证，也全球最先进的台积电和三星依然有不小的差距。正是认识到了这个不足，中芯国际邀请到了技术大拿蒋尚义的加盟，一方面为了促成与ASML有关EUV光刻机的购买协议；另一方面，则是通过自研来缩小与台积电和三星的技术差距。据业内人士透露，中芯国际通过转换封装技术，使用相对低端的DUV光刻机，实现了7nm芯片的制造，至于最高端的5nm芯片，也已在研发之中。

但是，EUV光刻机是中芯国际攻克5nm，必不可少的关键设备。目前，ASML已对可生产7nm芯片的DUV光刻机松口，但对于EUV光刻机却丝毫没有回旋的余地。EUV光刻机短缺，仍是挡在中国芯片路上的巨大拦路石。光刻机研制难度高，是半导体皇冠上的明珠。虽然国内制造商中芯国际已完全订购了一台 EUV 光刻机，但由于美国的缘故，ASML 从未发货过 EUV 光刻机。2020 年末，蒋尚义重返中芯国际，中芯国际也发布消息称，江尚义的回归将促进中芯国际与 ASML 的谈判，从而加快 EUV 光刻机的到来。事实上，EUV 光刻机能否到达，这是许多国内用户关注的问题，因为在 EUV 光刻机问世后，国内制造商不仅可以提高芯片的良好成品率，还可以实现 7nm、5nm 等芯片的独立生产。

总之，中国光刻机已看见曙光，接下来还要拭目以待。