又被卡脖子？日本光刻胶大厂断供中国多家晶圆厂

近日，有媒体报道称，由于KrF光刻胶产能受限，而全球芯片产能却不断扩产，因此占据全球光刻胶市场份额超两成的日本供应商信越化学向中国大陆多家一线晶圆厂限制供货KrF光刻胶，且已通知更小规模晶圆厂停止供货KrF光刻胶。

这意味着，国内多家晶圆厂将会面临KrF光刻胶大缺货的处境，例如中芯国际、华宏、士兰微等晶圆厂或无原材料可用！

光刻胶的重要性不输光刻机

要知道，芯片设计软件在美国，光刻机在荷兰，光刻胶在日本。虽然光刻胶的市场规模不大，但它却对芯片制造至关重要！

光刻胶又称光致抗蚀剂，它是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分构成的对光敏感的混合液体。光刻胶是利用光化学反应，经光刻工艺将所需要的微细图形从掩膜版转移到待加工基片上的图形转移媒介。其作用原理是利用紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源照射或辐射光刻胶，使其溶解度发生变化，最终得以在晶圆上刻蚀出需要的图形。

光刻胶的质量和性能，是影响半导体芯片性能的关键因素。光刻和刻蚀技术是精细线路图形加工中最重要的工艺，决定着芯片的最小特征尺寸。据估算，光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的30%，并且耗费时间约占整个芯片工艺的40%-50%。因此，半导体光刻胶是芯片制造的核心材料。

光刻胶市场，日本一家独大

由于光刻胶具有极高的行业壁垒，因此其市场呈现了寡头垄断的局面。目前，全球光刻胶市场排名前五的企业分别是日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、住友化学、信越化学，以及美国罗门哈斯。这五大厂商几乎占据了全球光刻胶市场87%的份额，行业集中度非常高。

值得注意的是，仅日本JSR、东京应化、日本信越与富士电子材料的市占率之和就达到了72%；并且高分辨率的KrF和ArF光刻胶核心技术也被日本和美国企业所垄断，比如陶氏化学、JSR株式会社、信越化学、东京应化工业，以及Fujifilm等企业。从整个市场来看，日本几乎成为了光刻胶行业的巨头集中营。

事实上，除了光刻胶之外，日本拥有绝对地位的半导体材料品种还有很多。根据广发证券此前发布的研究报告显示，生产半导体芯片需要19种必须的材料，缺一不可，且大多数材料具备极高的技术壁垒。而日本企业在硅晶圆、合成半导体晶圆、光罩、光刻胶、药业、靶材料、保护涂膜、引线架、陶瓷板、塑料板、TAB、COF、焊线、封装材料等14种重要材料方面，均占有50%及以上的份额。由此可见，在半导体材料领域，日本是绝对的霸主。

光刻胶国产化，任重而道远

然而，我国一直以来都只能生产低端光刻胶，并且能够批量供应KrF、ArF光刻胶的厂商却为数不多。

根据SEMI的数据显示，日本几大厂商在g线/i线、KrF、ArF胶的市占率分别为61%、80%、93%；而我国g线/i线的自给率仅为20%，KrF光刻胶的自给率不足5%，12寸硅片的ArF光刻胶目前尚无国内企业可以大规模生产。所以，高端的光刻胶一直被日本、美国所垄断。

不过，值得欣慰的是，近年来国内企业正在从低端光刻胶向中高端光刻胶逐步攻克。目前，国内在半导体高端光刻胶发展较好的上市企业主要有晶瑞股份、容大感光、上海新阳、南大光电，其各自的产品线和发展进程如下：

尽管国内晶圆厂将要面临日本光刻胶“断供”危机，但21ic家认为，这也恰好给国产替代按下了“快进键”。未来，随着本土光刻胶厂商实现KrF、ArF光刻胶研发完毕顺利完成客户验证后，国产替代将迎来高峰期，我国将不再受“卡脖子”威胁。