厚积薄发!我们超越欧美的芯片技术还需要多久?
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芯片技术包括:芯片设计、芯片制造、芯片封装测试、光刻机等相关设备。在芯片设计领域,华为海思代表着国内最高技术,其设计的麒麟芯片已经进入世界前三,能够和高通骁龙、苹果A系列芯片相媲美,但其实也只是刚刚开始“去美国化”。
但是芯片设计所需的EDA软件,被欧美垄断,国内企业仅有5%的市场份额,差距非常大。世界上最出名的三大EDA软件公司,分别是美国的Synopsys、美国的Cadence 、西门子旗下的 Mentor Graphics 。国内的EDA工具不全,很多只涉及到 IC 设计、布线、验证、仿真中的一部分环节。
而对于芯片制造,全球最大,技术实力最强的芯片制造厂商,就是台积电,台积电现在已经实现5nm工艺制式的量产,而大陆最好的芯片制造公司中芯国际,刚刚完成14nm的量产。从14nm到5nm需要大量的技术积累,需要突破专利的封锁,这个过程是无法逾越的,必须一步一步地来。
对于光刻机,国内光刻机企业典型代表是上海微电子,目前最高端工艺制程为90nm,在国内市场份额超过80%,并且也销往国外。上海微电子制造的光刻机和荷兰ASML的EUV光刻机相比,却处于低端序列,根本无法制造手机芯片,这也是华为麒麟芯片被“卡脖子”的一大原因。目前我国的光刻机水平处于市场最底端,和日本都有差距,和荷兰ASML差距则更大。芯片制造技术落后几年,光刻机相差5代,这就是我国芯片制造领域的处境。
众所周知,在中国强劲的崛起势头面前,美国使出了浑身解数。在看到一系列的打压遏制无效后,美国又开始出最狠的招,接连朝着中国的软肋上挥去。我们知道尽管中国目前取得的成就是十分喜人的,但是我们也必须承认的一点是,在某些方面,中国同世界先进水平仍有一段距离。
其中说起中国的短板,芯片领域就是其中之一。在建国初期,中国各方面都积贫积弱,生产力更是低下,这也是导致中国在芯片等高科技领域落后西方国家的原因。而在中国发展起来之后,芯片发展仍然是举步维艰,一个重要的原因就是美国的战略封锁制裁。
台积电作为全球技术最先进的代工厂商,几乎拿下了全球芯片市场一半以上的订单,苹果、华为以及联发科等,都是台积电的客户。
即便是能够自主研发制造芯片的英特尔,现在也成为了台积电的客户。
在台积电众多客户中,苹果和华为最为重要,因为这两者是台积电营收的最大贡献者,还总是承担台积电新流片费用,所以华为和苹果往往能早发布上市最新的处理器。
但没有想到的是,美国为了限制华为在5G等领域内发展,不断升级对华为的限制政策。
从禁止高通、谷歌等美国企业向华为出货,到限制使用美国技术的芯片企业向华为出货,虽然台积电技术很强大,但也无可奈何。
华为麒麟9000成了台积电最后的倔强
今年5月份,美国突然修改规则,称将严格限制华为使用美国技术研发、设计、制造半导体芯片,这意味着台积电想继续代工华为芯片也难了。
因为台积电使用了美国技术,尤其是先进的EUV光刻机,其包含大量的美国技术,没有这项设备,台积电也无法保持技术先进。
中国工程院院士、微电子工艺技术专家吴汉明表示,现在已进入后摩尔时代,其最大特征是每年芯片性能的提升呈现出发展趋缓的态势。“在2002年前,每年芯片性能的提升为52%,到后面几年变为23%,再到2018年的3.5%,由此可见发展放缓是一种趋势。在该条件下,对于始终在‘追赶’的中国集成电路而言,无疑是一个机会。”
值此机遇,吴汉明认为有必要将后摩尔时代的特点进行梳理,其中包括技术方向尚不明确、业务产业化、市场碎片化、研发经费较低等。“在整体发展中,我觉得对于我们国家而言,最大的挑战还是芯片制造工艺,交叉学科特点也在制造范畴里体现得最为明显。”
“5月6日,IBM宣布了特征线宽为两个纳米的芯片,可见集成电路技术在不断发展,这也使得集成电路的竞争成为一个非常重要的领域。”在中国科学院院士、半导体材料学家杨德仁看来,国际集成电路中长期发展将有多种挑战,包括特征尺寸的物理限制;电互连信号延迟,宽带受限;功耗密度的不断上升。
“把硅集成电路和光电子集成起来,也就是所谓的硅基光电子,这将成为集成电路发展的一个重要方向。”杨德仁介绍,硅基光电子在其性能上有一系列的优点,如带宽较宽、功耗较小、基本没有电磁干扰、体积小、接口密度大等。“也正因为这些优点,会使得硅基光电子在今后的通讯数据中心、高性能计算、人工智能等方面具有广泛的用途。”
美国深知只要在芯片上做文章,就能够给予中国较大的打击。据美国媒体最新报道称,日前美国就将芯片视作为打击中国的一个有力政治武器。此前,美国就曾对荷兰的阿斯麦公司施压,威胁其不准将EUV高端光刻机卖给中国。我们都知道,光刻机是芯片制造最核心的设备,在中国芯片制造本就举步维艰的时候,美国这一道禁令的威力可想而知。
我国拥有非常多的优秀半导体企业,在芯片设计、制造、封装和材料,设备等领域,都有相应的企业。诸如华为海思、中芯国际、晶瑞股份以及上海微电子等等,均属于国内半导体的头部玩家。
在这些企业的开拓下,中国芯片不断加速进步,去年华为发布了首款5nm麒麟9000,今年中芯国际即将在上海建设国内第一座FinFET工艺生产线。还有清华大学也在高端EUV光刻机光源取得进步。
国产芯片存在不足应该正视并改进,有进步的地方也值得骄傲和自豪。正所谓不积小流,无以成江海。国产芯片的突破不可能一蹴而就,再多给国产芯片一些时间,让技术研发,人才培养和企业进步,都有足够的发展空间。
只有打好产业链的基础,才能进一步提升芯片产能,到时候国产芯片的现状必将是自强不息。