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[导读]今日消息,在英特尔目前面临的威胁中,最大的威胁莫过于摩尔定律的失效。摩尔定律预测,芯片上集成的晶体管数量每2年翻一番。芯片上集成的晶体管越多,芯片处理能力就越强大,这是过去数十年来计算机处理能力越来越强

今日消息,在英特尔目前面临的威胁中,最大的威胁莫过于摩尔定律的失效。摩尔定律预测,芯片上集成的晶体管数量每2年翻一番。芯片上集成的晶体管越多,芯片处理能力就越强大,这是过去数十年来计算机处理能力越来越强大、尺寸越来越小的根本原因。

但部分物理学家表示,除非出现重大技术突破,摩尔定律的“大限”即将到来。英特尔芯片上晶体管的尺寸已经相当小,它们的性能濒临受到量子力学影响的边缘。

英特尔首席执行官科再奇(Brian Krzanich)认为,一种没有经过实践验证的全新技术——EUV(extreme ultraviolet lithography,超紫外光刻)将能解决这一问题。EUV有助于英特尔继续推出更小、更快和更节能的芯片。但是,英特尔首先必须要解决如何将EUV用于商业化生产的问题。

令人遗憾的是,这是一个典型的“知易行难”的问题。自1997年以来,英特尔一直在研发EUV。自荷兰ASML公司2009年开发出适合EUV的光源技术后,EUV技术一直没有什么重大进展。这也是英特尔去年夏季对ASML投资41亿美元的原因。

在开发功能更强大芯片的道路上,英特尔曾面临无数挑战和障碍,但它从未停滞不前。英特尔在今年的英特尔开发商论坛上展示了配置14纳米工艺Broadwell芯片的PC。英特尔承诺明年初发售Broadwell芯片,不过科再奇在最近的财报分析师电话会议上承认,英特尔尚未完全掌握生产Broadwell芯片所需要的技术。

英特尔计划2015年推出10纳米工艺芯片,2017年推出7纳米工艺芯片。相比之下,人类血细胞的大小是7000纳米,DNA的大小是2.5纳米。英特尔没有证实在推出这些芯片时会采用EUV工艺。出于竞争的原因,英特尔很少讨论其芯片制造工艺。

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