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[导读]2013年1份月已过去大半,笔者想在此介绍一个2013年将受关注的领域。虽然这样的领域很多,但笔者此次要说的是SiC及GaN等新一代功率半导体的动向。该领域之所以会受到关注,是因为在2013年,新一代功率半导体的使用范围

2013年1份月已过去大半,笔者想在此介绍一个2013年将受关注的领域。虽然这样的领域很多,但笔者此次要说的是SiC及GaN等新一代功率半导体的动向。该领域之所以会受到关注,是因为在2013年,新一代功率半导体的使用范围有望继2012年之后继续扩大。

2012年,SiC二极管在铁路领域及工业设备领域的采用趋于活跃。伴随这一趋势,SiC功率元件的开发也在加快。配备SiC二极管以及SiCMOSFET的“全SiC”功率模块产品的亮相,成为2012年一大热点新闻。

而GaN功率元件也一样,在2012年取得了巨大进展。耐压600V的GaN功率晶体管于2012年亮相,而以前产品的最大耐压只有200V。

因此,简单地说,SiC及GaN功率元件与数年前相比,有种一下子来到身边的感觉。这些元件与使用Si的功率元件相比,能够高速开关,因此可大幅减小开关损失。另外还能实现以更高频率开关的“高频工作”。这样一来,电感器等周边部件便可轻松实现小型化。而且这些新型功率元件还可“高温工作”,可使冷却器的体积更小。

而实际上,要想利用高速开关、高频工作及高温工作这些优点,还必须要解决诸多课题。比如,高速开关要求防止浪涌、瞬变及电磁噪声的发生;高频工作存在电抗损失增大的问题;而高温工作则需要使用低价格的周边部件,同时必须要在超过200℃的温度下实现稳定工作。要解决这些课题,就必须积累新技术。

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