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[导读]目前的DRAM市场充满不确定的讯号,有人认为景气高峰期已经结束了,也有人认为现在才正要开始,而且产品短缺的状况将会在可见的未来徘徊不去。还有人说,景气高峰期会持续,但将因为内存厂商缺乏晶圆厂设备而受到限制

目前的DRAM市场充满不确定的讯号,有人认为景气高峰期已经结束了,也有人认为现在才正要开始,而且产品短缺的状况将会在可见的未来徘徊不去。

还有人说,景气高峰期会持续,但将因为内存厂商缺乏晶圆厂设备而受到限制;据了解,ASML与Nikon等设备供货商,无法应付内存厂客户在先进制程DRAM量产方面对193纳米浸润式微影扫描机(immersionlithographyscanner)的需求。

由于DRAM制造商在近年来的景气循环中,都无法投资新的资本设备,再加上一些其它因素,使得整体DRAM位成长率在2010年恐怕仅有低于预期的2~4%。为此市场研究机构iSuppli已将2010年DRAM市场成长率由49%调降为45%。

DRAM产业的现况与前景究竟如何?有些人对短期趋势抱持悲观态度;VLSIResearch执行长G.DanHutcheson即表示,目前有三分之二的晶圆厂产能扩充计划集中在内存,而这个状况又是由DRAM厂商所主导。

「在5月份时,每个人都认为厂商之间的整并将限制产能过度扩充问题;但不到一个季的时间,眼前的景象已经从无止尽缺货转换为过剩。」Hutcheson认为。

但也有人不认同以上意见;「我们认为DRAM景气还能好上一阵子,原因是企业换机周期(将持续数年、不只是数季)、以及DRAM景气循环速度处于停滞状态(供应量成长状况更可预期、平均销售价格亦维持稳定),与1980、90年代那时不同。」RaymondJames&Associates分析师HansMosesmann表示。

Mosesmann指出,DRAM厂商预期今年第三季位需求可较前一季成长13~15%,第四季的状况也差不多;部份厂商甚至预测2011年将出现100%以上的位成长率。这不仅意味着整体位需求量的成长,也显示了企业应用端(服务器)转换至英特尔(Intel)Nehalem处理器架构,也对DRAM有更多需求。

iSuppli的资深DRAM产业分析师MikeHoward则认为,DRAM是对各种供需变化因素非常敏感的商品;预期在2010年,DRAM整体出货将达1.59亿Gbit约当位量,较去年的1.07亿成长48.6%。

「今年度大多数的DRAM需求量,预测将在下半年产生;第三与第四季的DRAM位成长率可望各达11%。」相较之下,第一与第二季的DRAM位成长率都远低于10%;因此Howard指出,集中在短短半年时间内的大量需求,会是对DRAM供货商生产力的严苛考验。

两个负面因素

然而iSuppli指出,有两个因素可能对下半年的DRAM市场产生负面影响;其一,是ASML目前无法为市场供应足够的193纳米浸润式微影扫描机,Nikon也即将面临相同窘境:「虽然ASML今年可望交出额外的33套浸润式扫瞄设备,但这无法解决目前的供应瓶颈。」

其二,没有了193纳米浸润式扫描机,DRAM制造商将在进入50纳米以下制程遭遇困难;包括三星(Samsung)、海力士(Hynix)与美光(Micron)都是因为取得了193纳米浸润式微影扫描机与其它设备,才能升级到50纳米以下制程。

但iSuppli指出,对资源有限或是那些正在协议转手的厂商来说,所伴随而来的许多困难,也可能减少其总产出,并对整个产业在该制程节点的位成长率造成负面影响。例如正在从6x纳米制程转换至45纳米制程的尔必达(Elpida),就可能是造成该公司良率问题的原因。

总之一个最大的问题就是:DRAM制造商能在多快的时间内升级产品?ConvergentSemiconductors分析师BobMerritt的答案是:“就看他们何时能筹到足够的资金来做这件事;但现在要升级制程的代价越来越高昂,这会变成一个难以往上爬的陡坡。”

就像NAND闪存产业的情况,DRAM厂商都希望能尽快添购193纳米浸润式微影;不过三星则积极在下一代DRAM生产上采用深紫外光微影(EUV),EUV设备的成本每套可能超过1亿美元,浸润式微影扫描机的价格则是5,000万美元起跳。

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