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[导读]尽管已经名列全球第一,然而在三星、英特尔等其他晶圆厂的压力之下,台积电仍不敢稍有松懈,不断发展更先进的制程技术。近期台积电已经对外宣示,其FinFET(鳍式场效电晶体)、极紫外光(EUV)等新技术研发及投产进度

尽管已经名列全球第一,然而在三星、英特尔等其他晶圆厂的压力之下,台积电仍不敢稍有松懈,不断发展更先进的制程技术。近期台积电已经对外宣示,其FinFET(鳍式场效电晶体)、极紫外光(EUV)等新技术研发及投产进度,已经全部进度拉前。未来在与对手的竞争上,将有更大本钱。



其实,台积电新制程技术发展进度提前,有两个重要意义,一是技术的研发有所突破,二是与三星及英特尔的竞赛上,手上将握有更多致胜武器。

据了解,台积电原本预计2015年后才能跨入16奈米FinFET制程,但现在已确定今年底就可开始以FinFET制程试产16奈米晶圆。这也意味著明年台积电就将全面跨入16奈米FinFET世代,比起预期的时间,整整提早一年。

什么是FinFET

FinFET称为鳍式场效电晶体(Fin Field-Effect Transistor)是一种新的互补式金属氧化半导体(CMOS)的电晶体种类。由于Fin是鱼鳍的意思,而FinFET也就根据电晶体的形状与鱼鳍的相似性来命名。

在2011年初,英特尔公司推出了商业化的FinFET制程技术,并使用在其22奈米晶圆的量产上。从Intel Core i7-3770之后的22奈米处理器,都使用了FinFET技术。由于FinFET具有功耗低,面积小的优点,使得台积电(TSMC)等等主要晶圆代工厂也纷纷投入发展自有的FinFET电晶体技术,为下一代的行动处理器提供更快,更省电的优势。而从2012年起,FinFET已经开始向20奈米节点和14奈米节点推进。



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