台积电选用益华Virtuoso/Encounter平台

益华电脑(Cadence)宣布台积电已选用益华解决方案，适用于20奈米设计基础架构，其解决方案涵盖Virtuoso客制/类比与Encounter RTL-to-Signoff平台。 益华晶片实现事业群资深副总裁徐季平表示，益华一直与台积电和双方的客户密切合作，开发周延的解决方案以克服20奈米设计挑战。益华Virtuoso与Encounter 20奈米技术独步业界且完善整合，提供一致化流程，能克服最严苛的低功耗混合讯号晶片的挑战。
台积电采用益华技术运用于客制化设计参考制程，透过共通的技术规画与完善整合的同步类比与数位布局，实现设计客制与数位辅助类比电路的有效方法。台积电20奈米参考制程融合Encounter与Virtuoso的全新功能与方法，兼顾新兴的重要电路特性、时序收敛与设计尺寸。
对客制/类比设计人员而言，Virtuoso技术在业界标准OpenAccess资料库中支援新的20奈米限制，包含G0规则、互动式配色实现有色彩意识的布局(Color-Aware Layout)、条件导向的预先配色流程、奇数回路的防止与侦测(Odd-Cycle Loop Prevention)、局部互连层专属的先进Pcell基墩(Pcell abutment)与支援。益华整合式实体验证系统是在Virtuoso平台中整合实体验证系统的设计技术。
对数位设计人员而言，Encounter RTL-to-GDSII支援20奈米规则、崭新FlexColor双重曝影(Double-Patterning)技术实现自动建构校正(Correct-by-Construction)布局与绕线，还有Encounter RTL Compiler加上Encounter数位设计实现(EDI)系统的GigaOpt最佳化，以更短的周转时间实现更高的成品品质。
益华网址：www.cadence.com