Vistec向华沙的ITME提供高性能电子束光刻系统

波兰华沙和德国耶拿--(美国商业资讯)--领先的电子束光刻系统提供商Vistec电子束公司宣布，华沙著名机构Electronic Materials Technology (ITME)购买了Vistec的可变电子束系统SB251。这款先进的光刻工具将被用于各种微光和衍射元件、新型材料以及光刻掩膜的研究和制造。

ITME是波兰领先的研究机构，研究领域涉及材料、创新设备和电子、微观力学和光电应用组件的研究、开发和制造等多学科领域。ITME总监Zygmunt Luczynski表示：“Vistec的电子束绘图机具有高性能和灵活性，因此我们选用该产品为研究、开发和制造提供支持。我们预计新型Vistec SB251将为成功达成我们的研发计划做出巨大贡献。我们是在欧洲进行招标后，最终决定选择这款产品的。”

Vistec SB251是一款通用系统，专为直写和掩膜制造曝光设计。该系统能够处理并曝光用于半导体和光学应用的透明及非透明材料。该系统配备50kV电子光、1nm地址网和阶段行程范围为210mm x 210mm的曝光平台，可在各种底膜进行50nm以下光刻，从不超过200mm的晶圆到7英寸的掩膜。该系统拥有图形用户界面(GUI)和全自动盒对盒底膜处理，可被ITME这样多元化、多用户环境的机构高效利用。此外，该系统配备数据准备软件包ePLACE（EQUIcon GmbH提供）。

Vistec电子束公司总经理Wolfgang Dorl评论说：“我们的长期合作伙伴ITME获得了先进的电子束光刻系统Vistec SB251。SB251具有高度灵活性和可靠性，完美适合ITME现在面临的多元化应用并可应对未来挑战。我们的合作始于20多年前，很高兴ITME向Vistec下了订单，进一步推进双方成功的合作关系。”