Molecular获提供先进光刻机和薄片图案形成服务的合约

-- Molecular Imprints 获提供先进光刻机和薄片图案形成服务的合约，为 G450c 计划提供支援
-- Molecular Imprints 获领先 IC 制造商授予首个450毫米光刻系统订单

德克萨斯州奥斯丁2011年11月18日电 /美通社亚洲/ -- 奈米图案系统( http://www.molecularimprints.com )和解决方案的市场和技术领先商 Molecular Imprints, Inc. 今天宣布，该公司已从一家领先的 IC 制造商处获得了一份合约，打造行业首个450毫米( http://www.molecularimprints.com )光刻系统。( http://www.molecularimprints.com )此次购买包括一项多年期薄片图案形成服务合约以及其它450毫米奈米压印系统的选择权。Molecular Imprints 的专有 Jet and Flash(TM) Imprint Lithography( http://www.molecularimprints.com ) (J-FIL(TM)) 技术以及优质压印掩膜( http://www.molecularimprints.com )的商业推出是选择该公司作为行业向450毫米晶圆过渡中坚力量的决定因素。

（图示：http://photos.prnewswire.com/prnh/20100504/MILOGO ）

Molecular Imprints 总裁兼首席执行官 Mark Melliar-Smith 表示：“半导体设备和制造商供应链必须及早获得完全图案化的优质450毫米晶圆，及时开发和优化其产品和工艺，以实现过渡。除了更大的基板尺寸之外，晶圆上日益增加的小设备功能必须能够一直应用到未来，用作原始设备制造商和工艺开发工具。我们的 J-FIL(TM) 技术是现在唯一的光刻解决方案，可满足行业向450毫米过渡的广泛需求。我们期待利用我们的能力在所要求的设计规则下及时实现向450毫米的过渡。”

鉴于193i 光刻技术已被强制采用复杂的复式图案制程来制作如今的半导体，极远紫外光刻 (EUV) 又不知何时可以启用，MII 的 J-FIL 技术被用于启动向450毫米的过渡就不足为奇了。J-FIL 已展示了刻线边缘粗糙度 (<2nm LER, 3 sigma) 和临界尺寸均匀性 (1.2nm CDU, 3 sigma) 不同寻常的24奈米图案结构，可扩展至小于18奈米，使用简单的单一图案工艺。J-FIL 通过避免高耗电 x 射线光源、复杂的光学透镜和镜子以及尚未开发的超灵敏光致抗蚀剂实现的内在拥有成本优势使其非常符合450毫米计划重要的生产力目标。

作为该450毫米合约的一部分，Molecular Imprints 将于明年下半年开始提供光刻系统和后来的晶圆服务。五年期晶圆服务合约需要向 G450C 联盟提供数千个完全图案化的450毫米晶圆，并可选择按需购买其它 J-FIL 压印系统。

Molecular Imprints, Inc. 简介

Molecular Imprints, Inc. (MII) 是半导体和硬碟 (HDD) 行业高解析度及低拥有成本奈米图案系统和解决方案的技术领先商。MII 将利用其拥有 IntelliJet(TM) 材料应用的创新 Jet and Flash(TM) Imprint Lithography (J-FIL(TM)) 技术成为储存和快闪记忆体设备高量图案形成解决方案的全球市场和技术领先商，同时推动新兴市场的显示器、清洁能源、生物技术等行业。MII 通过提供价格适中、相容且可扩展至小于10奈米解析度水准的全方位奈米图案解决方案促进奈米刻度图案的形成。谘询详情或在 twitter 上参阅该公司，请参访：www.molecularimprints.com。

企业公关连络人
Paul Hofemann
Molecular Imprints, Inc.
电话：+1-512-339-7760 转311
电邮：phofemann@molecularimprints.com