上海华力微电子55纳米工艺产品开始试流片

本报讯 4月29日，作为“909工程”升级改造的重要项目，上海华力微电子12英寸全自动芯片生产线55纳米工艺产品开始试流片，标志着这一由国家电子信息产业调整和振兴规划所确定的重大工程、上海高新技术产业化重大项目的建设进入了又一个新阶段。国家发改委、工业和信息化部等相关部门领导，上海市有关方面的负责人出席了项目的启动仪式。
上海华力微电子的12英寸芯片生产线项目于2010年1月19日启动，2010年6月18日取得施工许可证。仅用了5个月的时间便完成了净化厂房的改造和动力系统主体工程的建设，于2010年11月20日实现了首台核心工艺设备光刻机的入位。之后，项目采用了动力设施施工与设备安装调试平行进行的作业模式，在短时间内完成了首期月产能1万片的设备安装调试。
目前，上海华力微电子已经准备就绪的月产能1万片的设备，充分考虑到了技术的延展性，能够较好地满足包括浸没式光刻技术、应变硅技术、金属硬掩模后道互连技术等先进工艺的要求。在这些设备中，还采购了由上海中微半导体设备公司生产的国产刻蚀设备；在检测设备方面，配备了业界先进的亮场缺陷检测和电子扫描显微镜检测设备。
基于前期建设和研发的成果以及市场需求，上海华力微电子决定，首批流片就从55纳米的逻辑产品起步。下个阶段，将抓紧进行自身设备的工艺验证、客户的产品验证、最终产品的整机验证。在下半年完成下一个1万片月产能设备的选型和订购，第四季度开始进入45纳米的工艺研发。随后，将在项目3.5万片月产能达产验收后，向更高的工艺等级迈进。 (罗仁宵)