TSMC37纳米及以下工艺案终结

TSMC今(16)宣布，就美国国际贸易委员会(USITC)针对TSMC被指控28纳米工艺技术有侵权之虞的调查案，得以有利于TSMC的方式终结。TSMC与请求USITC调查此案的美国新墨西哥大学专利授权机构STC.UNM均已向法院提出终止调查申请，内容请参阅USITC网站---案件编号：337-TA-729、标题：In the Matter of Certain Semiconductor Products Made by Advanced Lithography Techniques and Products Containing Same。

这项调查内容指称TSMC37纳米及以下的半导体工艺侵害编号第6,042,998号 (“998”专利)的美国专利，但TSMC否认这项侵权指控。

TSMC资深副总经理暨法务长杜东佑博士表示：「虽然TSMC对于此次STC.UNM这种基于无效专利而提出的案件感到遗憾，但仍欣见本案终能解决」。