Intel大连芯片厂正式投产欧德宁出席仪式

英特尔大连芯片厂于2007年3月宣布建立，同年9月奠基开工。该工厂投资25亿美元，预计总使用面积达到16.3万平方米，内含1.5万平方米的无尘室，采用65纳米制造工艺，生产300毫米的晶圆。

2009年6月，英特尔宣布大连芯片厂将以65纳米制造工艺代替90纳米制造工艺。这也是目前英特尔在中国可以采用的最先进的制造工艺。

据悉，现在英特尔大连芯片厂已有员工1500余人，中国本地员工占60％以上。其中包括近300人的外籍专家，这些专家将在工厂运营初期负责培训新员工，等工厂正常运 行一段时间之后，再陆续回到原工作岗位。

同时，今年也是英特尔进入中国25年，英特尔大连工厂正式投产是其25周年最重要的庆祝活动之一。英特尔于1985年进入中国市场，25年来累积在华投资总额超过47亿美元。

以下为关于英特尔大连工厂的基本信息：

英特尔大连芯片厂位于辽宁省大连市金州新区的出口加工区内。

大连芯片厂是英特尔子1992年在爱尔兰建立F10晶圆厂后，新建的第一座晶圆厂，也是英特尔在亚洲的第一个晶圆制造工厂。

大连芯片厂投资总额为25亿美元，于2007年9月破土动工。

英特尔大连芯片厂是英特尔在全球第八家300毫米晶圆厂，投产后将首先生产芯片组产品，支持从笔记本电脑、高性能台式机到基于英特尔至强处理器的服务器等产品。

新工厂将首先采用65纳米制程技术。

英特尔大连芯片厂总是用面积达163000平方米，大约是23个足球场的面积。

英特尔选派300多名员工到美国和爱尔兰接受专业培训，也派了200多名外籍员工来中国工作。

已有约24加薪供应商落户大连，于英特尔开展业务，此外，还与80多家大连企业成为英特尔的供应商。（文/赵秀芹）