DRAM厂拼制程微缩　ASML机台交货不及

随着全球半导体产业复苏，原本财务结构岌岌可危的DRAM厂营运开始转佳，因此积极投入技术制程微缩的工作，但面临最大问题除了募资之外，还有ASML的浸润式曝光机台(Immersion Scanner)大缺货，交期甚至长达12个月，目前尚无明显纾解，使得较晚下单的台系DRAM厂都面临没有机台转进50奈米或40奈米的情况，被迫延后制程微缩的进度。
半导体产业的制程微缩进度往50奈米以下发展后，都开始要使用浸润式曝光机台，台积电、三星电子(Samsung Electronics)、东芝(Toshiba)由于财务结构齐全，因此早已预定机台，2010年的制程微缩进度并未被机台设备的进度连累到。
但对于台系DRAM厂而言，之前才刚从金融风暴中脱身，手上资金有限，面对1台价格高达新台币10亿~20亿元的浸润式曝光机台机台，财务负担相当吃力，且平均1台浸润式曝光机台约只能生产1万~1.5万片的产能，假设1座晶圆厂单月产能10万片，就要购买将近10台的浸润式曝光机台才能应付，花费可能上百亿元。
随着DRAM价格上升，各家厂商都开始有现金流入，2010年台系DRAM厂都是藉由现金流入累积资金，另一方面则是积极筹资来负担采购浸润式曝光机台的费用，但2010年下订金来预约机台，交! 期可能要长达近12个月，也间接阻碍台厂的制程进度演进。
其中，ASML最新款的浸润式曝光机台是NXT:1950i，由于交期较长，因此部分台厂也转向采购旧机种XT:1950i，两者的差别是，XT:1950i机种可能用到40奈米制程就是极限，而新款的NXT:1950i可往下做到30奈米制程世代，但相对而言，机台设备的费用也较高。
为因应采购浸润式曝光机台的资金，2010年募资最积极的是台塑集团旗下的南亚科和华亚科，两家公司2010年分别3度上修资本支出计划，其中南亚科2010年资本支出达新台币300亿元，华亚科的资本支出则高达580亿元，两家合计资本支出高达880亿元，位居台系内存厂之冠。
尔必达阵营中的力晶、瑞晶和茂德，由于浸润式曝光机台到货时= 较晚，但也有策略因应，就是从现有的65奈米制程转进63奈米制程，中间几乎不需再多花费资本支出，就可降低20%成本，其成本结构与50奈米制程不会差太多，唯一的缺点是63奈米制程不能生产2Gb芯片，只能生产1Gb芯片。
因此两阵营的策略是各有优缺点，实际上应该说是各自因应自己的财务实力，而选择不同的方向进行，南亚科和华亚科因为有台塑集团支持，募资较容易，因此全力采购浸润式曝光机台1次将50奈米制程做到位。
尔必达由于资金较为缺乏，因此先以63奈米制程应战，未来等浸润式曝光机台到位后，力晶、瑞晶、茂德等再转进45奈米制程，其中瑞晶转进45奈米制程的进度会最快，日前已正式试产成功。