瑞晶落实节能减碳　台湾第1份DRAM厂环境报告书出炉

DRAM厂瑞晶宣布发表台湾DRAM产业第1份企业环境报告书 (Corporate Environmental Report；CER)，并经过独立公正第3者英商劳氏检验(LRQA)的查证；瑞晶强调，2009年总产能较2008年成长5.7%，但用水量减少、温室气体排放量维持同样水平、废弃物回收率也同步成长，其中投入空气污染防治设备总金额将近新台币10亿元，公司期许未来在产能扩充的同时，也能更重视环保议题。

瑞晶表示，半导体业是大量用水的产业，为了减少对环境的伤害，公司在建厂时即导入高回收效率节水设备，包括前断制程省水机台，中断机台排水分流规划，和后段各项回收系统建置等，同时再配合各项节水改善计划、节水教育训练等。

瑞晶统计，2009年总产能较2008年成长5.7%，但2009年全场用水量为291.8万吨，较2008年305.5万吨减少13.7万吨的用水量，减少幅度为4.47%；而在回收水量方面，2009年回收水量为473.3万吨，较2008年457.3万吨增加16万吨，显示厂内回收水相关设施效果良好，瑞晶的节水绩效也会得政府机关的肯定。

在空气污染防制方面，瑞晶指出，合计近年来投入空气污染防治设备总金额将近新台币10亿元，污染物的排放情况皆符合排放总量要求。

此! 外，在在废弃物回收部分，2008年整体废弃物回收量为5,227吨，再利用率为 94%，2009年则提高至6,419吨，再利用率为96.7%。在臭氧消耗方面，瑞晶表示，除了空调使用环保冷媒之外，DRAM生产制造过程中，并没有臭氧消耗物质的产生。

瑞晶指出，2008年每片晶圆的二氧化碳排放= 为330公斤降低至2009年315公斤。

瑞晶进一步表示，这是台湾DRAM产业第1份企业环境报告书，涵盖2008年1月至2009年12月期间瑞晶在环保绩效上的表现，2009年相较于2008年，虽然DRAM产出增加，但用水量逆势减少，且温室气体排放量并未升高，且废弃物回收率也持续成长，预计2010年也将持续降滴水、店、瓦斯的使用量。

瑞晶成立于2006年11月，2007年10月开始量产，目前旗下12吋晶圆厂产能8万片，全数导入63奈米制程，下半年将转进45奈米制程；目前瑞晶是由力晶和尔必达共同合资成立，目前尔必达(Elpida)为最大股东，占持股比重约70%，主要经营团队仍由力晶高层担任，尔必达也派高阶经理人进驻协助。