三星电子全球率先研发出32纳米HKMG制程工艺

三星电子今后可用此次研发的技术给晶圆代工客户提供具有竞争力的最新半导体产品。

三星电子介绍说，基于同美国IBM等研发合作伙伴进行联合研究，并获得的研究成果，成功研发了32纳米HKMG制程技术，而该技术与现有的45纳米制程相比，密集度高出1倍。

一般而言，制程越细化漏电量越大，但HKMG技术采用新物质，有效将抵制程工艺的漏电量，并提高驱动速度，是一种最尖端的低耗电制程技术。

据展望，该技术将在研制智能手机、平板电脑等下一代移动终端方面起到重要作用。