诺发、IBM、CNSE携手开发光阻剥除制程技术

诺发系统(Novellus)和位于东菲什克尔的IBM公司，以及位于纽约奥尔巴尼的纽约大学奈米科学与工程学院(CNSE)，日前于CNSE的Albany奈米科技中心共同宣布成立策略合作联盟，将致力于发展22奈米以及更小世代的半导体制程技术的解决方案。
先进的45奈米和32奈米的半导体电路已进入量产，28奈米及更小世代的产品则正在进行开发。每进入一个更小的世代，就能促成体积更小、速度更快，并兼具更高效能的芯片，同时，也直接提高了产品的性能。受惠的对象则涵括服务器至智能型手机，无一例外。诺发系统在CNSE学院的Albany奈米科技中心，正式宣布加入这个已与IBM公司合作的CNSE研究团队为合作伙伴，共同携手面对进入每一个更小世代的技术挑战。

这个技术联盟成立后的第一个项目，将发展使用于28奈米和22奈米制程的无残留物先进光阻剥除技术。光阻剥除是半导体芯片布线的关键技术，此次合作的范围将包含一系列光阻剥除制程，包括高剂量植入光阻剥除制程兼容于高介电金属闸极的技术，以及对极低介电系数材料无损伤的化学蚀刻技术之发展。

IBM公司在半导体技术发展与制造的经验，可帮助这个团队加速在28奈米以及更小世代制程的开发。IBM位于East Fishkill的半导体工厂和CNSE学院的Albany奈米科技中心，将使用诺发系统的GxT先进光阻去除平台研发新的精密光阻剥除去应用。诺发系统的GxT平台提供良好的清洗效果，藉由导入特有的无氧化化学去除技术，实现了硅和氧化物损失小于0.1奈米的成果。CNSE学院则可在世界最先进的学术园地Albany奈米科技中心，提供技术人才与科技设施。