进攻先进制程 台积电首采ASML超紫外光微影设备

全球晶圆代工霸主台积电(TSM-US；2330-TW)虎年持续跃进，今(22)日与荷兰艾司摩尔(ASML；ASML-US)共同宣布，台积电将取得ASML公司的TWINSCAN NXE:3100超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影设备，将安装于台积电的超大晶圆厂12厂，用以发展新世代制程技术，有机会降低生产成本。台积电今日股价开盘大涨逾2%，一度回到60元之上。

ASML为欧洲半导体设备业龙头，除了台积电，联电(2303-TW)、GlobalFoundries和特许半导体(Chartered)也是 ASML的客户。此外，记忆体大厂三星(Samsung；005930-KR)、海力士(Hynix；000660-KR)、尔必达 (Elpida；6665-JP)、美光(Micron；MU-US)和南科(2408-TW)等都采用其设备。目前全球共6家取得ASML超紫外光微影设备，台积电为其中之一。

台积电指出，ASML的超紫外光微影设备，将安装于台积电的超大晶圆厂(GigaFab)－台积十二厂，用以发展新世代的制程技术，而台积电将成为全球第一个可在自身晶圆厂发展超紫外光微影技术的专业积体电路制造服务业者。

台积电进一步表示，相较于现行浸润式微影技术以193奈米波长当作光源，超紫外光微影技术导入更短波长的光源，将有机会降低生产成本，而成为积体电路制造更先进技术世代一个有潜力的选择。台积电目前正在对超紫外光及其他微影技术的最佳成本效益潜力进行评估。

台积电研发资深副总蒋尚义，台积电将利用ASML的TWINSCAN NXE:3100设备，进行更先进世代制程技术的研发。超紫外光微影技术是台积电正在研究的下世代微影技术之一，而导入此项设备，不但切合台积电保持先进技术领先的目标，更强化了台积电不断投资于欧洲半导体业创新的一贯承诺。经由ASML和其他公司，欧洲半导体业将在台积电未来制程技术的发展上，继续扮演重要的角色。

积极进攻22奈米及更先进世代制程，台积电上周五(2/19)也与荷兰商MAPPER 共同宣布，MAPPER安装在台积电晶圆12厂超大晶圆厂的原型机台，正不断地重复写出超威小电路组件。这项无光罩微影技术，超越了先前使用浸润式微影技术的限制 ，可望有效降低晶圆制造成本，也有助下一世代积体电路发展。