台积电指40奈米良率明年初改善　与中芯庭外和解

针对40奈米制程良率问题，晶圆代工大厂台积电(TSMC)表示，该状况可在2010年初获得解决；此外台积电日前也与中国同业中芯国际(SMIC)，就双方的侵权诉讼在法庭外达成和解。
台积电的40奈米良率问题在今年稍早之前就已发生，虽该公司表示已经大部份改善，但据了解，包括AMD、Nvidia等绘图芯片供货商目前仍然遭遇相关问题；对此台积电官方响应：「40奈米良率并不如报导所说那样的下滑，事实上，40奈米良率表现仍持平，台积电也有信心能在明年初让40奈米良率进一步改善。」
而在此同时，台积电与中芯国际的侵权诉讼也达成庭外和解；代表台积电的律师事务所Keker & Van Nest合伙人Jeffrey Chanin透露，根据双方协议，中芯将支付台积电2亿美元与未公开数量的中芯股票、认股权证(warrants)；而美国法院则将继续行使管辖范围内的判决权，其他和解协议内容则保密。
据了解，台积电最近在与中芯缠讼已久的侵犯商业秘密案件中，赢得了陪审团的判决；美国加州高等法院(California Superior Court)陪审团裁定，中芯自2005年1月以来与台积电达成商业间谍、侵犯知识产权相关案件的和解之后，仍继续盗用台积电的商业机密。
参考原文
˙TSMC: 40-nm yields will improve (Mark LaPedus)
˙Update: TSMC, SMIC settle bitter suit (Mark LaPedus)