Synopsys CEO谈EDA下一轮浪潮
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见到这位EDA领域的传奇人物是在3月21号,慕尼黑上海电子展结束后那天上午,匆匆一个小时的交流,信息量极大。印象最深刻的是Aart的儒雅亲切,以及对产业的清晰洞见。
Synopsys创始人,现任CEO Aart de Geus
自下而上的设计,自上而下的工具
系统级设计、SoC设计以及3D IC等概念代表着IC设计中的集成化趋势,Synopsys是较早意识到这种趋势的EDA厂商之一,Aart带领研发的一些设计和验证工具就是为复杂的芯片设计提供支持。
Aart提到,随着制造工艺节点的向前推进,EDA厂商面临来自两方面的机遇和挑战,一方面是芯片厂商大规模复杂集成电路的设计、验证需求,另一方面是工艺厂商更低尺寸工艺节点的设计需求。
对于前者,Aart表示设计通常为自下而上,从IP复用、纠错和原型设计、系统级复杂芯片到最后的系统设计,而工具则是自上而下的,从选择的工艺制程,设计中遵循的PPAY原则(即高性能、低功耗、小尺寸和高良率),规模化的复杂度,以至深入到硅。Synopsys此次推出的几款新产品代表了他们对复杂设计趋势的应对,用超过3年的研发,和一直以来年均33%的研发投入,为下一代设计提供技术和产品支持;对于后者,Aart认为FinFET工艺是20nm以下的必然选择,Synopsys多年来和UC伯克利以及众多领先Foundry厂商保持紧密合作,目前可为FinFET工艺提供IP、设计工具和技术团队的支持,并且Synopsys已经开始与7nm工艺产线的合作开发。但同时Aart也表示,7nm之后FinFET工艺将失效,届时将有新的工艺出现。