海力士扩大中国工厂产能 追加投资2.6亿美元

    据路透社报道，海力士表示将在无锡的合资内存企业再投资2.6亿美元，用于扩展这家300毫米工厂的产能。这家20亿美元的合资企业是海力士半导体与意法半导体在2004年兴建的，最初是双方各持股50%。但在海力士增加投资之后，目前海力士在该企业所占份额已升至77.44%。

    最近，意法半导体与英特尔组建了一家名为“Numonyx”的NOR与NAND闪存企业。作为该计划的一部分，意法半导体把在上述中国企业中的股权转到了Numonyx。但根据非常复杂的安排，海力士半导体在实际管理这家在中国的企业。

    据Chosun Ilbo的报道，在另一份项交易中，海力士半导体一直在与茂德谈判向后者转让54纳米DRAM技术的事宜。茂德是海力士在台湾地区的技术伙伴。

    海力士半导体想把66纳米芯片技术转让给茂德，但韩国的几家厂商反对这个企图。但海力士半导体仍在争取以充分理由实现上述目标。

    海力士的上述举措是对竞争对手的行动所作出的回应。美光(Micron)日前与台湾地区的南亚科技建立了DRAM技术联盟。美光还宣布在美国爱达荷州州兴建一家新工厂。

    日本DRAM厂商尔必达(Elpida)也在台湾地区找了一家合作伙伴，与力晶(Powerchip)半导体建立了一家合资企业。