美国再次放宽对华高技术产品出口 65nm以下刻蚀设备不再受限

[导读]在SEMI及会员公司的共同努力下，经过9个月的等待，美国联邦政府正式实施放宽刻蚀设备的出口条件，原来180nm的技术审核指标被正式放宽到了65nma。