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[导读]用于低温多晶硅TFT面板的等离子CVD装置“AKT-20K PX” (点击放大) 美国应用材料(AMAT)于当地时间2011年3月7日发布了等离子CVD装置“AKT-20K PX”,用于制造智能手机和平板终端使用的高精细显示屏(英文发布资


用于低温多晶硅TFT面板的等离子CVD装置“AKT-20K PX” (点击放大)
美国应用材料(AMAT)于当地时间2011年3月7日发布了等离子CVD装置“AKT-20K PX”,用于制造智能手机和平板终端使用的高精细显示屏(英文发布资料)。该装置可制造有源矩阵型有机EL面板和液晶面板使用的低温多晶硅TFT阵列。支持第5.5代的1300mm×1500mm基板。另外,该基板尺寸与韩国三星移动显示器在2011年开始量产的有机EL面板工厂中使用的玻璃基板相同。

AMAT公司副总裁兼平板显示事业部总经理Tom Edman表示:“此次的等离子CVD装置已经面向主要显示屏厂商供货多台”。目前,智能手机使用4~5英寸的有机EL面板。关于有机EL,AMAT表示:“预计今后新一代平板终端将采用7~12英寸的面板,为了满足这种需求,需要大幅扩大产能”。

AMAT公司预定在上海举办的“FPD China 2011”(3月15~17日)上展出此次发布的等离子CVD装置AKT-20KPX。(记者:田中 直树)



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