以纳米压印法开发全新光学组件

日本理化学研究所以纳米压印法 (Nanoimprint Lithography, NIL)开发出可在高曲折率玻璃上形成细微构造的全新光学组件。该机构以高度1130纳米的L/S(Line & Space)图形转印，成功制造出波长750纳米、位相差0.25的1/4波长板 (Wave plates)，

具有可低价、大量生产等特点。

玻璃具有高透明性、曲折率、耐热性、耐旋光性等特征，广泛地应用在面板、镜头、光纤等领域方面；不过一般而言，以纳米压印法设计光学构造，往往需要500~600度的高温环境，因此不利于大量加工生产。

研究团队使用玻璃原料―多晶硅(polysilicon)在低温低压下形成细微构造，然后再经过照射紫外线以及离膜后的热处理，多晶硅便成为了玻璃，在波长400~800纳米下的透过率证实可达到70%以上的水平。

新产品预计除可作为光开关或高曲折率波长转换机等用途外，研究团队也期待应用在高机能镜片、反射防止膜等领域，希望早日达到实用化水平。