制程技术就定位GZO薄膜取代ITO有望

工研院机械所先进制造和新技术组电浆应用技术部经理张加强表示，工研院正利用专利大气压电浆辅助化学气相沉积(AP-PECVD)设备，发展GZO镀膜与图案化制程，以取代ITO薄膜充当触控模组的TCO层，助力业者控管生产成本。该技术采用低温电浆成形手法，毋须透过高温化学反应或采用昂贵的真空帮浦；不仅大幅节省设备开支，亦可符合绿色制程规范，过程中不会产生任何有毒物质。

面对ITO货源集中，导致触控模组成本居高不下的问题，以GZO、导电高分子(PEDOT)或碳奈米管(CNT)等新材料取代ITO的发展已势不可当。其中，GZO与ITO同为无机材料，电阻值、光穿透率表现相近，且价格极具吸引力，系目前最被看好的替代方案。

张加强透露，工研院已携手台湾设备厂启动GZO薄膜试产，可将厚度仅0.1毫米(mm)的GZO涂布于玻璃上，并将锁定软性背板，推行与卷对卷(Roll to Roll )制程相容的解决方案。预计在GZO镀膜良率达到稳定水准后，将陆续技转给相关业者，提高台湾触控模组厂对上游材料的成本掌控度，进而厚实市场竞争力。

除应用大气压电浆制作GZO薄膜外，磁控溅镀(Magnetron Sputtering, MS)、离子镀膜(Reactive Plasma Deposition, RPD)制程亦迭有进展。日本LINTEC研究中心设备材料实验室首席研究员Koichi Nagamoto指出，LINTEC正以离子镀膜技术研发将GZO贴合在玻璃或聚酯树脂膜(PET)上的解决方案，并着手进行测试，包括光穿透率、电阻值、厚度及耐弯折度的表现均相当优异。

Nagamoto更透露，LINTEC提出一项专利技术，可在PET与GZO薄膜之间，导入涂布缓冲层(Coating Buffer Layer)。该设计除可促进PET表面平滑，优化光学特性外，并让GZO更容易附着于PET上，借以维持80%以上的光穿透率与增强耐弯折幅度，提升触控功能。

至于下一阶段的计画，LINTEC将强攻磁控溅镀技术。Nagamoto分析，基于磁性溅镀制程的GZO电气特性虽不如离子镀膜出色，但其耐弯折度较佳，适合用在PET软板上。因此，LINTEC已将其视为未来的布局重点，将针对此一制程的蚀刻步骤进行全面检测，以改善生产良率。