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[导读]日本半导体能源研究所(SEL)、夏普以及Advanced Film Device Inc三家公司在SID 2013上,就制作的3.4英寸柔性有机EL显示屏面板及其制作方法发表了论文(演讲序号18.2)。另外,SEL等还在演讲后的开发人员见面会上对新

日本半导体能源研究所(SEL)、夏普以及Advanced Film Device Inc三家公司在SID 2013上,就制作的3.4英寸柔性有机EL显示屏面板及其制作方法发表了论文(演讲序号18.2)。另外,SEL等还在演讲后的开发人员见面会上对新款面板进行了现场演示。

SEL等开发出了显示部分尺寸为42.12mm×74.88mm的3.4英寸立式柔性有机EL显示屏面板。像素为540×960×RGB,分辨率为326ppi,厚度为70μm,重量为2g。据介绍,在面板的周边部分,可弯曲的曲率半径为4mm。

SEL等曾在2012年的SID上,发布了在不锈钢箔上形成的底部发光型有机EL显示屏面板(参阅本站报道)。而此次则制作出了屏幕尺寸和像素等相同,最终通过转印技术配备树脂基板的顶部发光型面板。


制作步骤如下:首先在玻璃基板上形成金属的“分离层”,在其上面形成封装层、TFT层以及有机EL层。另外,彩色滤光片也同样在玻璃基板+分离层上经由封装层形成。

其次,采用粘合剂将有机EL层和彩色滤光片层粘在一起。之后,按照先彩色滤光片、后有机EL层的顺序,分别剥离玻璃基板和分离层,然后粘贴柔性基板。由此,可以形成由两个封装层夹住TFT层、有机EL层和彩色滤光片层的柔性有机EL面板。

这里采用的TFT是SEL开发的CAAC(C-Axis Aligned Crystal)构造InGaZnO(CAAC-IGZO)TFT。(记者:野泽 哲生,《日经电子》)

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