EDWARDS将展示世界领先的真空设备和尾气处理系统

21ic讯 Edwards公司将在3月18-20日于上海新国际博览中心(Shanghai New International Expo Centre，SNIEC)举办的SEMICON® China展会上展示一系列高性能真空泵，包括最近推出的STP-iXA4506大容量(large-capacity)涡轮分子泵(turbomolecular pump，TMP)。对于目前世界最大的半导体集成电路市场，SEMICON China展会是设备制造商展示其产品和技术的重要活动。

Edwards公司总部设在英国，拥有完善成熟的全球品牌。Edwards公司真空和尾气处理技术致力于在整个半导体制造领域中减少污染、降低能耗和运营成本，这些领域包括LED、太阳能光伏(solar PV)和平板显示(flat-panel display，FPD)等。

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Edwards全球市场半导体行业经理Maiku Boger表示：“中国的半导体行业继续表现出强劲增长，尤其是受到国内生产的推动。中国的战略目标包括新能源和环境的可持续性，因此，太阳能光伏(PV)、FPD和化合物半导体等都属于中国非常具有竞争力的广泛工业领域。Edwards公司的真空和尾气处理系统是满足这个巨大市场供应链的绝对核心，从2005年开始，业界公认中国已经是世界最大的半导体芯片市场。”

Edwards的真空和尾气处理系统缓解了一系列环境威胁，例如半导体生产工艺中产生的酸性和腐蚀性气体，Edwards可帮助用户实现碳排放为负值(carbon-negative)。Edwards通过一系列创新但已经过验证的泵和系统来提供高能效解决方案，所有这些方案都仅需要相对较低的资本投入和维护成本。

Edwards在中国的主要目标就是按照客户的特定要求来提供定制的真空解决方案和增值服务，以便帮助他们应对在先进工艺和设备制造中遇到的挑战。Edwards能够在需要尾气处理的场合提供“交钥匙”系统方案。

Edwards将在上海展会展示新型STP-iXA4506大容量(large-capacity)涡轮分子泵(turbomolecular pump，TMP)，该新发布的产品经专门设计为成本敏感的半导体、FPD、LED和太阳能电池板制造商节省投资。STP-iXA4506具有高速度(4300 l/s N2)和高排气量(高达4300 sccm N2)，并且结合了高效抽吸轻、重气体的能力，因而成为广泛的大容量、高流量应用的理想选择，这些应用包括半导体蚀刻、LCD蚀刻、玻璃镀膜、太阳能物理气相沉积(physical-vapour deposition，PVD)和PVD镀膜。

Edwards在展位上展出的其它产品包括iH600、iXM1200 / 1800、STP iXA3306和 iXH645H：

• iH600干泵为PECVD和LPCVD等复杂困难工艺提供了高可靠性，这些工艺存在着粉尘颗粒、易冷凝和腐蚀性副产品。

• iXM1200 / iXM1800是Edwards公司首次在中国展出的优化节能型设备，具有超低功率输入。它还具有同类最佳的粉体处理和耐腐蚀性，达到最高可靠性并延长泵的使用寿命。

• STP-iXA3306磁浮式涡轮分子泵带有完全集成的板载控制器，无需泵和控制单元之间使用连接电缆。它还消除了安装空间和成本，上述附件是传统分体式(rack-type)控制单元所需要的。

• iXH645H干泵已针对MOCVD工艺进行了优化，该工艺用于LED制造和其它形式的化合物半导体生产。iXH泵的先进技术可使维护需求最小化并使泵的运行时间最大化，帮助降低运营成本。

欢迎所有SEMICON China 2014展会观众光临Edwards在N1展厅中的1014展位，在这里，公司代表和应用专家将在现场讨论哪类泵和系统是您最合适的解决方案。

积极参与SEMICON China展会表明Edwards公司完全致力于服务中国客户和发展在中国不断增长的服务机构，其机构现在包括两个重要的制造基地，极大地增强了Edwards在中国的本地支持能力，并且加强了公司延伸至中国客户的世界级服务和支持。