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[导读]TDK开发出了厚度仅为15μm的触摸面板用透明导电膜。这是设想用于平板电脑及智能手机用电容式触摸面板而开发的产品,目标是2015年投放市场。 右手中是两片重叠在一起的此次开发的15μm厚的试制品。因为很薄,所以

TDK开发出了厚度仅为15μm的触摸面板用透明导电膜。这是设想用于平板电脑及智能手机用电容式触摸面板而开发的产品,目标是2015年投放市场。

右手中是两片重叠在一起的此次开发的15μm厚的试制品。因为很薄,所以呈下垂状态。左手拿的是两片重叠在一起的125μm厚的透明导电膜。 (点击放大

随着平板电脑及智能手机向薄型化发展,作为其主要部件之一的触摸面板的薄型化需求也非常强烈。据TDK介绍,目前主流的电容式触摸面板用透明导电膜的厚度为125μm,但50μm产品的出货量在2013年趋于增加,2014年将成为主流。而且,到2015年,市场上还将出现对更薄产品的需求。因此,该公司迅速开发出了厚度为15μm的透明导电膜。

透明导电膜难以实现薄型化的原因在于,在制造工序中薄膜容易受热变形,导致透明导电材料在基板上成膜时不稳定。这会造成明显的成膜不均,使导电膜难以获得均一的特性。TDK利用在约30年的磁带制造中积累的知识和经验,通过选择合适的薄膜基板材料和透明导电材料、优化成膜条件,解决了这一难题。

另外,TDK是在其位于日本大分县日田市的三隈川工厂完成从材料的开发、选定到透明导电膜制造的整个流程。如果不采取这种一条龙体制,“此次的开发很难完成”(TDK)。

此次透明导电膜的透明导电材料使用的是利用溅射法成膜的ITO(铟锡氧化物)。薄膜电阻值为100Ω/□,可用于电容式触摸面板

另外,TDK将在10月1日~5日于幕张MESSE国际会展中心举行的“CEATEC JAPAN 2013”上参考展出此次的薄膜试制品。(记者:田中 直树,《日经电子》)



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