新技术：AMAT推出金属氧化物面板

半导体设备大厂应用材料(AppliedMaterials,AMAT)宣布推出一组以金属氧化物晶体管生产的全新技术系统，可用于生产包括4K2K电视面板在内所需的薄膜晶体管(TFT)。应用材料指出，该款系统符合今日消费者对屏幕性能、清晰度、色彩和明亮度的更高规格需求，可生产高分辨率显示器所需的更小、反应更快的薄膜晶体管。

应用材料指出，新的PVD和PECVD系统的材料工程能力，为未来量产以金属氧化物为基础的显示器，提供最佳化、具成本效益的解决方案。该生产技术平台主要可导入大尺寸、超高分辨率(UHD)液晶显示和有机发光二极管(OLED)显示器的生产，不仅大幅提升应材在金属氧化物(MO)薄膜和技术的领导地位。

金属氧化物型薄膜晶体管为可制造低功率、高分辨率的智能型手机、平板计算机及有机发光二极管电视(OLEDTV)之先进技术。未来4K2K超高分辨率电视机预计也将采用金属氧化物薄膜晶体管技术。应用材料的PVD和CVD系统均具备均匀度和微尘粒子控制技术，有助客户提供高良率量产的全新显示器。

应用材料公司资深副总裁AliSalehpour指出，应用材料的PVD和PECVD系统，能协助客户转换既有的金属氧化物材料技术，加速显示器产业的技术蓝图演进，同时符合客户对均匀度、微尘粒子控制和稳定度挑战的严格要求。

应材指出，新的PVD系统可提升均匀度、同构型和低缺陷的金属氧化物反应层沉积(例如氧化铟镓锌IGZO)，以及金属导线和像素电极特性。应材说明，当薄膜晶体管愈来愈小，而基板愈来愈大时，均匀度和微尘粒子对良率就会产生更大的影响力；均匀的IGZOPiVot沉积膜可使薄膜晶体管达到高可靠度，是显示器高质量的重要因素，也是大小尺寸OLED使用金属氧化物技术背板的关键所在。

另一方面，应用材料的新PECVD系统则提供领先市场的二氧化硅(SiO2)制程，可降低制程的氢含量、并为金属氧化物晶体管沉积绝缘层界面，藉此增进晶体管的长期稳定性并提升屏幕最佳化的性能。