Intel建全球首家300毫米晶片研究室
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〖eNews消息〗英特尔公司今天宣布开设全球首家300毫米晶片研究实验室。该实
验室名为RP1(RP- research and pathfinding表示研究和探索)，耗资2.5亿美元，是全球首家
致力于进行基于新型300毫米晶片的先进硅处理技术研究的实验室。
英特尔
研究人员将利用RP1开发下一代照相平板印刷术(photolithography)、高性能晶体管、先进(铜和
光)互联以及（涉及新材料和新化学过程的）环保生产工艺。这一新设施将使英特尔研究人员一如
既往地制造世界上体积最小、性能最佳的晶体管。晶体管越小，运行速度越快。而高速晶体管是高
速微处理器的关键建筑模块，后者是计算机和无数其它智能产品的大脑。
英
特尔高级副总裁兼技术和制造事业部总经理Sunlin Chou博士说：“英特尔的技术队伍将通过研
究、探索、开发和制造阶段高效地促进创新。RP1与D1C相邻，英特尔300毫米技术过程的各个环节
均已到位，将按照摩尔定律开发更大尺寸的晶片。”
RP1隶属英特尔实验室
下属英特尔元件研究实验室。英特尔元件研究实验室开发的硅技术通常要领先英特尔目前的制造工
艺2－3代。
新建的RP1研究设施拥有56,000平方英尺的洁净车间
(cleanroom)，与英特尔的开发工厂D1C和大规模制造厂Fab20相邻。RP1将促使英特尔尽快将研究
进展付诸于生产制造。RP1是研究和探索机构，区别于英特尔的开发工厂。探索是研究和开发之间
的关键性过渡阶段。这极大加快了英特尔将先进技术应用于量产产品的速度。
我们既可以在烧杯里进行小规模的研究，也能够成批使用300毫米晶片进行
大规模研究，所有工作都是在一个实验室中完成的。”
英特尔实验室是英特
尔的研发机构，设施遍及全球，拥有6,000多名研究员和科学家。英特尔实验室采用分散的研发模
式，内部研究机构实力雄厚，与之相辅相成的是和院校、政府实验室和业界联营机构开展的诸多外
部研究方案。这种结构与业界传统的集中式研究实验室有所不同，使英特尔能够在更为广泛的领域
内开展研究项目。英特尔实验室与英特尔业务部门密切协作，使实验室能够针对客户和消费者的需
求进行技术开发。
英特尔硅技术研究详细情况见英特
尔新开设的硅展室，网址为www.intel.com/research/silicon。英特尔实验室科研项目详细情
况见www.intel.com/labs。
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