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[导读]每每提到半导体行业发展,免不了要说下中国最近两年发展集成电路的决心之强、投资之大,国内公司对人才也求贤若渴,不惜高薪挖人,但在关键技术上,我们落后欧美公司还是挺多的,特别是在半导体制造装备上,先进的光刻机还被欧美封锁,有钱也买不到。进入10nm工艺节点之后,EUV光刻机越来越重要,全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了,他们总共卖出18台EUV光刻机,总价值超过20亿欧元,折合每套系统售价超过1亿欧元,可谓价值连城。

 每每提到半导体行业发展,免不了要说下中国最近两年发展集成电路的决心之强、投资之大,国内公司对人才也求贤若渴,不惜高薪挖人,但在关键技术上,我们落后欧美公司还是挺多的,特别是在半导体制造装备上,先进的光刻机还被欧美封锁,有钱也买不到。进入10nm工艺节点之后,EUV光刻机越来越重要,全球能产EUV光刻机的就是荷兰ASML公司了,他们总共卖出18台EUV光刻机,总价值超过20亿欧元,折合每套系统售价超过1亿欧元,可谓价值连城。


ASML公司的光刻机是半导体生产中至关重要的装备

对于芯片制造,有种戏谑的说法是CPU原材料是沙子,凭什么卖这么贵——这当然是玩笑,沙子和晶圆都有二氧化硅成分,但完全是不同的东西,成本更不可比。之前我们也科普过CPU制造过程,完成整个过程需要很多工序,其中关键部分就是光刻,光刻工艺是这个制造环节是最为复杂的,成本最为高昂的,因为光刻模板、透镜、光源共同决定了“印”在光刻胶上晶体管的尺寸大小。

目前的光刻工艺使用的是193nm的紫外光,随着制造工艺的提升,紫外光光刻技术也将进入EUV极紫外光刻阶段,但EUV工艺目前还不够成熟,产能达不到大规模量产标准。


CPU制造过程中,光刻是非常关键的一步

光刻工艺需要光刻机,全球有能力生产光刻机的公司不多,日本尼康、佳能也有这方面的技术,但目前只能混迹低端市场,能玩转高端市场、特别是EUV光刻机的只有荷兰ASML公司了,这也是Intel、TSMC、三星等晶圆厂都在争取的新一代生产装备。

该公司日前发布了2016年财报,全年营收67.95亿欧元,同比增长8%,毛利率44.8%,净利润14.7亿欧元,同比增长6%。

2016年Q4季度新卖出6台EUV光刻机,如此一来ASML公司售出的EUV光刻机总量就达到了18台,总价值超过20亿欧元,算下来平均每台设备超过1亿欧元,放在全球来看,单一设备能达到这个价格的也没几个。

根据ASML公司所说,2017年他们预计交付12套EUV光刻机,芯片厂商大规模量产EUV光刻工艺预计会在2018年底到2019年初,也就是在7nm节点及之后才会量产EUV工艺。

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