Cadence发布7纳米工艺Virtuoso先进工艺节点扩展平台

 为了应对7nm设计的众多技术挑战，Virtuoso先进工艺平台提供丰富的版图设计功能，包括：支持多重曝光(MPT)的色彩感知的编辑功能、支持FinFET网格功能、及支持模块生成器(ModGen)器件阵列编辑功能等多种高级编辑功能。同时，在电路设计流程中，客户可以使用Spectre® APS仿真器、Virtuoso ADE产品套件和Virtuoso 原理图编辑器执行对多工艺边界的蒙特卡洛分析(Monte Carlo Analysis)，从而加强电路设计的差异分析。

“作为移动运算的领军企业之一，我们致力于以最高性能、最低功耗和最高密度实现创新的先进工艺节点设计，”联发科技(MediaTek)模拟设计与电路技术部总经理Ching San Wu表示。“我们与Cadence长期开展密切合作，成功开发并部署了基于Virtuoso先进工艺节点平台的定制设计方法。采用Cadence针对7nm工艺专门开发的多项独特功能，我们得以成功实现近期的流片。”

新版Virtuoso先进工艺节点平台的主要特色包括：

· 多重曝光和色彩感知版图：新平台为各种色彩感知“多重曝光”定制设计流程提供关键支持，符合7nm工艺的基准要求，并助用户提高设计生产力。

· ModGen器件阵列：提供与关键合作伙伴共同开发的模块组，助设计师提高7nm工艺节点生产力，降低版图复杂度。

· 自动FinFET布局：支持自动FinFET网格布局，全面简化7nm工艺所需的基于颜色的FinFET设计方法。在充分了解7nm工艺限制条件的基础上，Virtuoso先进工艺节点平台大幅简化了版图设计，并将7nm设计中常见错误发生的可能性降至最低;从而使定制的数字和模拟模块的版图设计时间缩短最高达50%。

· 差异分析：支持针对FinFET技术的高性能蒙特卡洛分析和高西格玛分析，可使总的仿真时间缩短至原时长的十分之一。

“经过长期的创新实践以及与业界领袖的战略合作，Cadence已经成为先进工艺节点定制设计工具的顶尖供应商，”Cadence高级副总裁兼定制IC和PCB事业部总经理Tom Beckley表示。“通过与联发科技等客户的广泛合作，我们降低7nm工艺设计成本的方法已获得充分证实。我们的许多客户都已使用Virtuoso先进工艺节点平台成功流片，交付量产。”