美研制高介电常数氧化铪，将成为下一代光电设备最佳材料

近日，美国科学家研制出一种新式氧化铪，凭借更高的介电常数，有望制造下一代电子设备、光电设备及光伏设备等。下一代光电设备等将会更加微型，而新式氧化铪能够很好的满足该要求，因此十分被科学家看好。

什么是氧化铪呢？是一种金属氧化物，通过喷溅制造而成的材料，主要应用于电子工业领域，如光学涂层、电容器以及晶体管。此次科学家通过利用高靶溅射(HiTUS)来促进等离子溅射的新沉积技术，解决了传统难精确控制沉积过程的能量情况，成功研制出新式氧化铪。

目前非晶体氧化铪的介电常数仅维持在20左右，而介电常数越高，其存储电荷的能力越强。介电常数低限制和阻碍了氧化铪的进一步发展利用，此次研制出来的新式氧化铪大大提升了其介电常数，达到30左右。同时新式氧化铪性质更加均匀，电阻率更高、光子散射更低，将会成为研制下一代光电设备的最佳材料，也拓展了自身的应用领域。