高德红外非制冷式红外焦平面阵列探测器获专利

近日，高德红外公司研发的一种非制冷式红外焦平面阵列探测器，获得国家知识产权局颁发的发明专利证书。

该非制冷式红外焦平面阵列探测器，于2011年05月11日申请专利，授权公告日为2013 年1月9日，专利号为ZL201110120925.6。

该发明专利的正式授予对于公司发展具有自主知识产权的创新性技术和产品具有积极意义，能够推动高德红外公司红外焦平面探测器项目的产业化发展。

武汉高德红外股份有限公司位于中国光电子产业基地——“武汉?中国光谷”，是一家专业制造红外热成像系统的高科技企业，是全球领先的红外热像仪专业研制厂商。自成立以来，高德公司立足自主创新，积极开展红外光学、成像电路、图象处理、人工智能、机械结构及系统工程等方面的设计与研究，开发出上百款拥有完全知识产权的红外热像系统及高科技光电系统，各项技术居国内领先、国际先进水平。公司于多年前已开展红外焦平面探测器的技术储备与器件研制工作，红外焦平面探测器项目的产业化发展对其具有战略性意义。