东芝研发全球首款搭载TSV技术的16颗粒堆叠式NAND闪存
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东芝公司今日宣布研发全球首款*1运用硅通孔(TSV)技术的16颗粒(最大)堆叠式NAND闪存。将于8月11日至13日在美国圣克拉拉举行的2015年闪存峰会(Flash Memory Summit 2015)上展示其原型。
堆叠式NAND闪存的先前技术是在封装内运用引线接合法连接在一起。而TSV技术利用垂直电极和贯穿硅芯片模的通孔实现连接。该技术支持数据高速输入和输出,并降低功耗。
东芝TSV技术实现超过1Gbps的I/O数据速率,高于具有低电源电压的任何其它NAND闪存。核心电路1.8V,I/O电路1.2V,写入操作、读取操作和I/O数据传输的功耗降低约50%*2。
这款全新的NAND闪存为包括高端企业级SSD在内的闪存应用提供理想的低延迟、高带宽和高IOPS/Watt解决方案。
这项应用技术部分由日本新能源和工业技术开发组织(NEDO)研发。
该原型的一般规格
封装类型 |
NAND Dual x8 BGA-152 |
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存储容量(GB) |
128GB |
256GB |
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栈数: |
8 |
16 |
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外形尺寸 (毫米) |
宽 |
14mm |
14mm |
长 |
18mm |
18mm |
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高 |
1.35mm |
1.90mm |
|
接口 |
Toggle DDR |
注:
*1:截至2015年8月6日。东芝调查。
*2:与东芝当前产品相比。