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[导读]随着宽带隙(WBG)器件的推出,许多电源设计人员已开始研究基于硅上氮化镓(GaN-on-Si)的FET的优点,适用于各种新设计和新兴应用。与客户保持一致,出现了许多供应商以满足这些

随着宽带隙(WBG)器件的推出,许多电源设计人员已开始研究基于硅上氮化镓(GaN-on-Si)的FET的优点,适用于各种新设计和新兴应用。与客户保持一致,出现了许多供应商以满足这些需求。然而,在走上这条道路之前,了解硅和GaN晶体管之间的关键差异非常重要,因为它们的驱动要求也会不同。

与硅MOSFET不同,氮化镓(GaN)基FET的运行速度要快得多栅极阈值电压。此外,GaN FET的内部栅极电阻要低得多,体二极管反向恢复特性要优越得多(GRR为零)。有一些输出电容,但它明显低于硅。?实际上,由于与硅相比较低的导通电阻(RDS(on))和栅极电荷QG,GaN晶体管的品质因数(FOM)要低得多同行。更重要的是,GaN晶体管不像MOSFET那样受到强烈的负温度系数的影响。因此,与硅MOSFET相比,GAN FET的驱动要求,无论是正常关断还是开启,都会有很大差异。因此,为了充分利用这些新型高性能晶体管,设计人员必须先了解如何有效地驱动它们,以使GaN FET的导通和开关损耗最小化。除了实现最佳栅极驱动外,PCB布局和热设计考虑因素对于这些WBG器件同样重要,以实现最佳系统性能和可靠性。

驱动GaN FET

为电源设计人员提供更轻松的功能德州仪器(TI)等供应商开发了针对这些WBG设备进行优化的栅极驱动器。实际上,供应商精心挑选的MOSFET驱动器具有有助于高效驱动GaN基功率FET的特性。例如,它选择了一系列硅驱动器,其性能适合于最佳驱动高达100 V或更高电压的各种增强型GaN(eGaN)FET。该系列的第一个产品是100 V半桥驱动器LM5113,它克服了驱动具有低阈值电压和高dv/dt特性的晶体管的任务。它设计用于驱动高端和低端eGaN FET,提供独立的漏极和源极输出(图1),从而可以独立控制导通和关断,而不会受到旁路二极管电压降的不利影响在关闭状态。产品数据表显示该驱动器还具有0.5Ω的极低吸收阻抗,从而为低阈值电压eGaN FET提供快速关断路径。

TI表示,基于硅的LM5113使用一种专有的自举技术,用于调节大约5.25 V的高端栅极电压,以最佳驱动eGaN功率FET,而不会超过6 V的最大栅极 - 源极电压额定值。此外,LM5113的输入兼容TTL逻辑,可承受高电压无论VDD引脚的电压如何,输入电压最高可达14 V.此外,为了提供灵活性,可以独立调节导通和关断强度,LM5113可提供分栅输出。其他功能包括28 ns(典型值)的短传播延迟,快速上升和下降时间以及电源轨欠压锁定。

 

 

图1:优化驱动高电平和高电平低侧eGaN FET,TI的驱动器LM5113提供独立的漏极和源极输出eGaN驱动器可以在高达几MHz的频率下切换,以与GaN晶体管的高开关速度兼容。它采用标准WSON-10封装,采用12焊球DSBGA封装,主要针对高效电源转换(EPC)eGaN FET。为了将杂散电感降至最低,封装尺寸最小化,允许在PCB布局期间将eGaN FET放置在靠近驱动器的位置。事实上,EPC已经使用LM5113和eGaN FET构建了几个演示板。这些电路板展示了eGaN FET(包括驱动器)在隔离和非隔离DC/DC转换器设计中实现的高效率,同时提供高功率密度。 EPC演示板展示的高转换效率表明驱动器LM5113最适合驱动eGaN FET。

现在让我们来研究一下这些评估板。

评估板

对于EPC的评估板,最新推出的产品是EPC9022至EPC9030,它提供半桥拓扑结构,带有板载栅极驱动器LM5113以及该公司超高频,高性能eGaN FET系列EPC8000的成员。例如,EPC9022包含两个65 V EPC8002 GaN FET,采用半桥配置,LM5113作为栅极驱动器(图2)。

 

 

图2:EPC评估板采用半桥采用超高频,高性能eGaN FET和栅极驱动器LM5113的拓扑结构。

同样,TI已经为5 A,100 V半桥eGaN FET栅极驱动器LM5113创建了自己的评估板。它采用带有电压模式控制器LM5025的同步降压转换器,用于产生降压和同步开关的PWM信号。?该电路板的规格,如用户指南中所述,包括15 VDC至60 VDC的输入工作电压输出电压为10 VDC,48 VDC输入时为10A,输入电压为60 VDC时为7 A.开关频率为800 kHz。测得的效率如图3所示,在48 VDC输入和10 A输出电流下显示为93.9%。该图显示随着输入电压下降,效率提高。在24 V输入时,10 A时10 VDC输出的报告效率为96%。

 

 

图3:LM5113评估板效率与不同输入电压下的负载电流。

对于高功率应用,TI开发了具有独立源和接收功能的7.6 A低端驱动器。它被指定为LM5114,经过优化,可驱动低侧应用中的eGaN FET,如同步整流器和升压转换器。 LM5114的其他主要特性(图4)包括匹配反相和非反相输入之间的延迟时间以减少死区时间损耗,12 ns典型传播延迟以实现高开关频率,低输入电容,TTL/CMOS逻辑兼容,和分离门输出。对于操作,它需要一个4 V至12.6 V的单电源,并且无论VDD引脚的电压如何,都可以处理高达14 V的逻辑输入。该器件采用SOT-23-6和WQFN-6封装,工作温度范围为-40°C至+ 125°C。

 

 

图4:LM5114设计用于驱动低侧eGaN FET。它提供独立的源和灌电流输出,可控制上升和下降时间。总之,TI等供应商推出了现成的栅极驱动器,可轻松满足eGaN FET的严格驱动要求,从而使设计人员能够从这些新型高性能WBG晶体管中获取全部优势。

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