佳能公司宣布将于2018年12月下旬发布针对半导体曝光设备后道工序的i线光刻机※1「FPA-5520iV」系列的高分辨率新产品“FPA-5520iV HR Option”，强化FOWLP※2功能，并进一步提升生产效率。
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