刻蚀,英文为Etch,它是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻 [1] 相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。
Sense.i为刻蚀技术的未来设定步伐
通过推动相关材料的创新,泛林能够提供更优秀的刻蚀设备,在满足高深宽比相关苛刻要求的同时,保障卓越性能和成本效益。
近日,泛林集团发布了专为其最智能化的刻蚀平台Sense.i™所设计的最新介电质刻蚀技术Vantex™。基于泛林集团在刻蚀领域的领导地位,这一开创性的设计将为目前和下一代NAND和DRAM存储设备提供更高的性能和更大的可延展性。
泛林集团全新的Sense.i平台提供了行业领先的产量和创新的传感技术。