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应用材料公司推出用于先进存储器和逻辑芯片的新型刻蚀系统Sym3®
Sym3® Y专为3D NAND、DRAM和代工厂逻辑节点中的关键导体刻蚀应用而打造
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应用材料公司推出全新刻蚀系统 实现原子级生产精度
21ic讯 应用材料公司今天宣布推出下一代刻蚀设备Applied Centris™ Sym3™ 刻蚀系统。该系统设有全新的反应腔，可实现原子级精度工艺。为了克服芯片内部特征差异，Centris Sym3系统超越了现有的蚀刻技术，
小轩窗
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