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光程研创携宽谱3D传感技术亮相CES
光程研创因采用独特创新的GeSi工艺技术，从而能率先研发出宽谱3D飞行时间传感技术。如今GeSi工艺技术已受国际固态电路研讨会（International Solid-State Circuits Conference）青睐，相关论文并已入选ISSCC 2020，显示该创新技术获产学界认可，将成为3D传感技术的未来趋势
光程研创因采用独特创新的GeSi工艺技术，从而能率先研发出宽谱3D飞行时间传感技术。如今GeSi工艺技术已受国际固态电路研讨会（International Solid-State Circuits Conference）青睐，相关论文并已入选ISSCC 2020，显示该创新技术获产学界认可，将成为3D传感技术的未来趋势
