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应用材料公司全新的物理气相沉积(PVD)系统 采用突破性硬掩模技术
·使用全新硬掩膜材料技术于10纳米及以下确保紧凑型薄互连的大规模图形生成·领先的物理气相沉积技术提供多代产品的创新工具应用材料公司近日推出全新的Applied Endura Cirrus HTX物理气相沉积(PVD)*系
·使用全新硬掩膜材料技术于10纳米及以下确保紧凑型薄互连的大规模图形生成·领先的物理气相沉积技术提供多代产品的创新工具应用材料公司近日推出全新的Applied Endura Cirrus HTX物理气相沉积(PVD)*系
